レーザ光源装置およびレーザ光源装置の制御方法[ja]

被引:0
申请号
JP20210015443
申请日
2021-02-03
公开(公告)号
JP7575058B2
公开(公告)日
2024-10-29
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
H01S5/068
IPC分类号
G02F1/01 G02F1/37
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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共 50 条
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レーザ光源モジュールおよびレーザ光源装置[ja] [P]. 
日本专利 :JP6272067B2 ,2018-01-31
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レーザ光源装置及びレーザ光源装置の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2013146313A1 ,2015-12-10
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レーザ光源装置およびレーザ顕微鏡[ja] [P]. 
日本专利 :JP6192280B2 ,2017-09-06