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反射型マスクブランク、反射型マスク、反射型マスクブランクの製造方法、及び反射型マスクの製造方法[ja]

被引：0
申请号：
JP20230046214
申请日：
2023-03-23
公开(公告)号：
JP2024135499A
公开(公告)日：
2024-10-04
发明(设计)人：
AKAGI DAIJIRO OKATO TAKESHI SASAKI KENICHI ISHIKAWA ICHIRO SUZUKI NORIYUKI
申请人：
AGC INC
申请人地址：
IPC主分类号：
G03F1/24
IPC分类号：
C23C14/06 G03F1/32 G03F1/54
代理机构：
代理人：
法律状态：
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
共 50 条
[1]
反射型マスクブランク、反射型マスク、反射型マスクブランクの製造方法、及び反射型マスクの製造方法[ja] [P]. 
AKAGI DAIJIRO ;
OKATO TAKESHI ;
SASAKI KENICHI ;
ISHIKAWA ICHIRO ;
SUZUKI NORIYUKI .
日本专利 :JP2024135147A ,2024-10-04
[2]
反射型マスクブランク、反射型マスクブランクの製造方法、反射型マスク、反射型マスクの製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP7367901B1 ,2023-10-24
[3]
反射型マスクブランク、反射型マスクブランクの製造方法、反射型マスク、反射型マスクの製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP7697609B1 ,2025-06-24
[4]
反射型マスクブランク、反射型マスク、反射型マスクブランクの製造方法、及び反射型マスクの製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP2025171653A ,2025-11-20
[5]
反射型マスクブランク、反射型マスク、反射型マスクブランクの製造方法、及び反射型マスクの製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP7315123B1 ,2023-07-26
[6]
反射型マスクブランク、反射型マスク、反射型マスクブランクの製造方法、及び反射型マスクの製造方法[ja] [P]. 
TAKI SHUNYA ;
IWAOKA KEIMEI ;
AKAGI DAIJIRO ;
ISHIKAWA ICHIRO .
日本专利 :JP2024107472A ,2024-08-08
[7]
反射型マスクブランク、反射型マスク、反射型マスクブランクの製造方法、及び反射型マスクの製造方法[ja] [P]. 
SEI RYOSUKE .
日本专利 :JP2025037417A ,2025-03-18
[8]
反射型マスクブランク、反射型マスク、反射型マスクの製造方法[ja] [P]. 
HANEGAWA HIROSHI ;
HITSUYA TAIGA ;
ONO YUSUKE ;
TAKI SHUNYA .
日本专利 :JP2024120111A ,2024-09-03
[9]
反射型マスクブランク、反射型マスクおよび反射型マスクの製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP2025146082A ,2025-10-03
[10]
反射型マスクブランク、反射型マスクおよび反射型マスクの製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP2025146050A ,2025-10-03
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