酸化錫粒子含有ゲル、酸化錫粒子分散液の製造方法、および、酸化錫粒子積層膜の製造方法[ja]

被引：0

申请号：

JP20230073606

申请日：

2023-04-27

公开(公告)号：

JP2024158418A

公开(公告)日：

2024-11-08

发明(设计)人：

NOHARA AKIHIRO YAMAGUCHI TOMOHIKO

申请人：

MITSUBISHI MATERIALS CORP

申请人地址：

IPC主分类号：

B01J13/00

IPC分类号：

C01G19/02 C09C1/00 C09D1/00 C09D17/00

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共 50 条

[1]

酸化錫粒子分散液、酸化錫粒子分散液の製造方法、および、酸化錫粒子積層膜の製造方法[ja] [P].

NOHARA AKIHIRO ;

YAMAGUCHI TOMOHIKO .

日本专利 :JP2024124166A ,2024-09-12

[2]

酸化錫粒子分散液、および、酸化錫粒子積層膜の製造方法[ja] [P].

NOHARA AKIHIRO .

日本专利 :JP2025054304A ,2025-04-08

[3]

酸化錫粒子分散液、および、酸化錫粒子積層膜の製造方法[ja] [P].

NOHARA AKIHIRO .

日本专利 :JP2025067071A ,2025-04-24

[4]

酸化錫粒子分散液、および、酸化錫粒子積層膜の製造方法[ja] [P].

NOHARA AKIHIRO .

日本专利 :JP2025077592A ,2025-05-19

[5]

酸化インジウム錫粒子、酸化インジウム錫粒子分散液、酸化インジウム錫粒子分散液の製造方法、および、酸化インジウム錫粒子積層膜の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP2025153051A ,2025-10-10

[6]

酸化チタン粒子、酸化チタン粒子分散液及び酸化チタン粒子分散液の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP7205437B2 ,2023-01-17

[7]

ゲルの製造方法および粒子分散ゲルの製造方法[ja] [P].

SUZUKI CHISATO ;

ISHIDA REIJI .

日本专利 :JP2024022778A ,2024-02-21

[8]

粒子分散体の製造方法及び酸化物半導体粒子の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP5920312B2 ,2016-05-18

[9]

無機酸化物粒子分散液の濃縮物の製造方法、及び無機酸化物粒子の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP5645702B2 ,2014-12-24

[10]

粒子分散用ゲル、粒子分散ゲルおよび粒子分散用ゲルの製造方法[ja] [P].

SUZUKI CHISATO ;

ISHIDA REIJI .

日本专利 :JP2024022776A ,2024-02-21

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