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金属表面上の金属酸化物の選択的堆積[ja]
被引:0
申请号
:
JP20200070516
申请日
:
2020-04-09
公开(公告)号
:
JP7523936B2
公开(公告)日
:
2024-07-29
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
C23C16/04
IPC分类号
:
C23C16/40
H01L21/31
H01L21/316
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
金属表面上の金属酸化物のALDのための方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2021503547A
,2021-02-12
[2]
金属表面上の金属酸化物のALDのための方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7413258B2
,2024-01-15
[3]
水平表面上におけるSiNの選択的堆積[ja]
[P].
日本专利
:JP2020529736A
,2020-10-08
[4]
金属シリサイドの選択的堆積及び酸化物の選択的除去[ja]
[P].
日本专利
:JP2022506677A
,2022-01-17
[5]
金属シリサイドの選択的堆積及び酸化物の選択的除去[ja]
[P].
日本专利
:JP7503547B2
,2024-06-20
[6]
基板、基板の金属表面領域への選択的な膜堆積方法、有機物の堆積膜及び有機物[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2020009048A1
,2021-08-02
[7]
减少金属表面上的腐蚀
[P].
刘正伟
论文数:
0
引用数:
0
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0
刘正伟
;
T·斯潘杰克逊
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
T·斯潘杰克逊
;
S·拉马钱德兰
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
S·拉马钱德兰
.
中国专利
:CN107787379A
,2018-03-09
[8]
パルス化学気相堆積による金属酸化物の選択的堆積[ja]
[P].
日本专利
:JP2023521770A
,2023-05-25
[9]
パルス化学気相堆積による金属酸化物の選択的堆積[ja]
[P].
日本专利
:JP7779947B2
,2025-12-03
[10]
パルス化学気相堆積による金属酸化物の選択的堆積[ja]
[P].
日本专利
:JP7483038B2
,2024-05-14
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