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エッチングフロント金属触媒を用いる高アスペクト比メモリのプロファイル最適化[ja]
被引：0
申请号：
JP20230542862
申请日：
2021-12-08
公开(公告)号：
JP2024504118A
公开(公告)日：
2024-01-30
发明(设计)人：
申请人：
申请人地址：
IPC主分类号：
H01L21/3065
IPC分类号：
C23F4/00
H01L21/336
H10B43/30
代理机构：
代理人：
法律状态：
国省代码：
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法律状态
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