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活性酸素供給装置[ja]
被引:0
申请号
:
JP20200181668
申请日
:
2020-10-29
公开(公告)号
:
JP7584995B2
公开(公告)日
:
2024-11-18
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
A61L2/20
IPC分类号
:
C01B13/02
H05H1/24
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
活性酸素供給装置及び活性酸素による処理方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7571088B2
,2024-10-22
[2]
活性酸素供給装置、活性酸素による処理装置及び活性酸素による処理方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2022023131A
,2022-02-07
[3]
活性酸素供給装置、活性酸素による処理装置及び活性酸素による処理方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7140885B2
,2022-09-21
[4]
除菌装置、除菌方法、活性酸素供給装置及び活性酸素による処理装置[ja]
[P].
日本专利
:JP7786801B2
,2025-12-16
[5]
活性酸素生成装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2010119529A1
,2012-10-22
[6]
活性酸素発生装置[ja]
[P].
日本专利
:JP7233697B2
,2023-03-07
[7]
活性酸素発生装置[ja]
[P].
日本专利
:JP6889499B2
,2021-06-18
[8]
活性酸素消去剤[ja]
[P].
日本专利
:JP7153429B2
,2022-10-14
[9]
活性酸素量測定装置、活性酸素表面処理装置、活性酸素量測定方法および活性酸素表面処理方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2013035304A1
,2015-03-23
[10]
活性酸素量測定装置、活性酸素表面処理装置、活性酸素量測定方法および活性酸素表面処理方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6059148B2
,2017-01-11
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