一种羟胺插层氧基氯化铁材料及其制备方法与应用

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202311429827.X
申请日
2023-10-31
公开(公告)号
CN117466339B
公开(公告)日
2024-11-15
发明(设计)人
徐西蒙 张舒静 王御豪 杨盈
申请人
昆明理工大学
申请人地址
650000 云南省昆明市一二一大街文昌路68号
IPC主分类号
C01G49/10
IPC分类号
C01B21/14 C02F1/72 B01J27/24 C02F101/30
代理机构
昆明正原专利商标代理有限公司 53100
代理人
程相桂;陈左
法律状态
实质审查的生效
国省代码
云南省 昆明市
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共 50 条
[1]
一种羟胺插层氧基氯化铁材料及其制备方法与应用 [P]. 
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