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成像装置、成像方法和成像程序
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202380027834.9
申请日
:
2023-03-10
公开(公告)号
:
CN118872282A
公开(公告)日
:
2024-10-29
发明(设计)人
:
池田将彰
申请人
:
索尼半导体解决方案公司
申请人地址
:
日本神奈川
IPC主分类号
:
H04N23/60
IPC分类号
:
G06T7/00
G06V10/70
代理机构
:
北京康信知识产权代理有限责任公司 11240
代理人
:
沈丹阳
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2024-10-29
公开
公开
2025-02-25
实质审查的生效
实质审查的生效IPC(主分类):H04N 23/60申请日:20230310
2025-11-14
发明专利申请公布后的撤回
发明专利申请公布后的撤回IPC(主分类):H04N 23/60申请公布日:20241029
共 50 条
[1]
成像装置、成像方法和成像程序
[P].
西谷泰昭
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
索尼半导体解决方案公司
索尼半导体解决方案公司
西谷泰昭
.
日本专利
:CN117413530A
,2024-01-16
[2]
成像装置、成像方法和程序
[P].
野村和典
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
索尼集团公司
索尼集团公司
野村和典
;
猪俣诚一
论文数:
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0
机构:
索尼集团公司
索尼集团公司
猪俣诚一
;
簗奏子
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
索尼集团公司
索尼集团公司
簗奏子
.
日本专利
:CN114080796B
,2024-07-02
[3]
成像装置、成像方法和程序
[P].
二见毅
论文数:
0
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0
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二见毅
;
大坪慎一
论文数:
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大坪慎一
;
岩崎敦司
论文数:
0
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0
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0
岩崎敦司
.
中国专利
:CN102547106A
,2012-07-04
[4]
成像装置、成像方法和程序
[P].
佐藤大辅
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0
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佐藤大辅
;
上田敬史
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上田敬史
;
水口淳
论文数:
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水口淳
.
中国专利
:CN103037167A
,2013-04-10
[5]
成像装置、成像方法和程序
[P].
野村和典
论文数:
0
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野村和典
;
猪俣诚一
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猪俣诚一
;
簗奏子
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簗奏子
.
中国专利
:CN114080796A
,2022-02-22
[6]
成像装置、成像方法和程序
[P].
钓部智行
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钓部智行
;
丰田圭司
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丰田圭司
;
广瀬信幸
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广瀬信幸
.
中国专利
:CN103314575A
,2013-09-18
[7]
成像装置、成像方法和程序
[P].
游马晃
论文数:
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游马晃
.
中国专利
:CN101399923A
,2009-04-01
[8]
成像装置、成像方法和程序
[P].
三桥拓哉
论文数:
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机构:
索尼半导体解决方案公司
索尼半导体解决方案公司
三桥拓哉
;
细谷亮
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机构:
索尼半导体解决方案公司
索尼半导体解决方案公司
细谷亮
;
桥本哲郎
论文数:
0
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机构:
索尼半导体解决方案公司
索尼半导体解决方案公司
桥本哲郎
;
长尾俊治
论文数:
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机构:
索尼半导体解决方案公司
索尼半导体解决方案公司
长尾俊治
;
佐藤真一
论文数:
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机构:
索尼半导体解决方案公司
索尼半导体解决方案公司
佐藤真一
;
坂口高宏
论文数:
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机构:
索尼半导体解决方案公司
索尼半导体解决方案公司
坂口高宏
;
小林一仁
论文数:
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机构:
索尼半导体解决方案公司
索尼半导体解决方案公司
小林一仁
;
阿波嵜弘树
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机构:
索尼半导体解决方案公司
索尼半导体解决方案公司
阿波嵜弘树
;
穴井宏明
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机构:
索尼半导体解决方案公司
索尼半导体解决方案公司
穴井宏明
;
小早川修
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机构:
索尼半导体解决方案公司
索尼半导体解决方案公司
小早川修
;
野村英良
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机构:
索尼半导体解决方案公司
索尼半导体解决方案公司
野村英良
.
日本专利
:CN117693945A
,2024-03-12
[9]
成像装置、成像方法和程序
[P].
田中寿郎
论文数:
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田中寿郎
;
板仓英三郎
论文数:
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板仓英三郎
;
冈伸一
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冈伸一
;
清宫广之
论文数:
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清宫广之
.
中国专利
:CN115004683A
,2022-09-02
[10]
成像装置、成像方法和程序
[P].
山口祯
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山口祯
;
稻叶靖二郎
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稻叶靖二郎
;
石井聪
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石井聪
.
中国专利
:CN113366826A
,2021-09-07
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