光处理装置的控制方法、控制装置、光处理装置及介质

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202411163108.2

申请日：

2024-08-22

公开(公告)号：

CN118873245A

公开(公告)日：

2024-11-01

发明(设计)人：

柯创勇

申请人：

深圳由莱智能电子有限公司

申请人地址：

518000 广东省深圳市粤海街道科技园社区科苑路8号讯美科技广场1号楼810

IPC主分类号：

A61B18/20

IPC分类号：

A61B90/00

代理机构：

深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570

代理人：

吴金

法律状态：

公开

国省代码：

广东省深圳市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-11-01	公开	公开
2024-11-19	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):A61B 18/20申请日:20240822
2025-03-11	著录事项变更	著录事项变更IPC(主分类):A61B 18/20变更事项:申请人变更前:深圳由莱智能电子有限公司变更后:深圳由莱智能电子有限公司变更事项:国家或地区变更前:中国变更后:中国变更事项:地址变更前:518000 广东省深圳市粤海街道科技园社区科苑路8号讯美科技广场1号楼810变更后:518000 广东省深圳市南山区粤海街道科技园社区科苑路8号讯美科技广场1号楼810

共 50 条

[1]

光处理装置的控制方法、控制装置、光处理装置及介质 [P].

曾弟 ;

请求不公布姓名 .

中国专利 :CN118662224A ,2024-09-20

[2]

光处理装置的控制方法、控制装置、光处理装置及介质 [P].

请求不公布姓名 .

中国专利 :CN117281613B ,2024-06-25

[3]

光处理装置与光处理装置的控制方法 [P].

陈多姣 .

中国专利 :CN118356250A ,2024-07-19

[4]

光皮肤处理装置的控制方法和光皮肤处理装置 [P].

柯创勇 ;

曾弟 .

中国专利 :CN121059272A ,2025-12-05

[5]

光处理装置及光处理方法 [P].

今村笃史 ;

后藤一浩 ;

藤次英树 .

中国专利 :CN110947020A ,2020-04-03

[6]

光处理装置及光处理方法 [P].

中岛明信 ;

杉冈晋次 ;

山口真典 ;

藤次英树 .

中国专利 :CN102218414A ,2011-10-19

[7]

介质处理装置、介质处理系统、及介质处理装置的控制方法 [P].

小池利明 ;

岩佐有弥 ;

春日孝子 ;

黑田阳美 .

中国专利 :CN104339883B ,2015-02-11

[8]

介质处理装置、及介质处理装置的控制方法 [P].

小池利明 .

中国专利 :CN103377508A ,2013-10-30

[9]

介质处理装置及介质处理装置的控制方法 [P].

深泽弘保 ;

森山隆司 ;

一宫祐太 ;

赤羽千加子 .

中国专利 :CN104369553B ,2015-02-25

[10]

图像处理装置及配光控制方法 [P].

小林正自 .

中国专利 :CN102806867A ,2012-12-05

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