学术探索
学术期刊
学术作者
新闻热点
数据分析
智能评审

用于获得磨粒的原料及其选择方法、磨粒的制造方法、研磨液的制造方法、研磨方法、零件的制造方法、以及半导体零件的制造方法

被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202380036913.6
申请日：
2023-05-09
公开(公告)号：
CN119110837A
公开(公告)日：
2024-12-10
发明(设计)人：
久保拓梦 李相哲 影泽幸一 野村理行
申请人：
株式会社力森诺科
申请人地址：
日本国东京都港区东新桥一丁目9番1号
IPC主分类号：
C09K3/14
IPC分类号：
C01F17/235 H01L21/304
代理机构：
上海华诚知识产权代理有限公司 31300
代理人：
杜娟
法律状态：
公开
国省代码：
引用
下载
收藏
法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2024-12-10 公开 公开
2025-06-06 实质审查的生效 实质审查的生效IPC(主分类):C09K 3/14申请日:20230509
共 50 条
[1]
用于获得磨粒的原料及其选择方法、磨粒的制造方法、研磨液的制造方法、研磨方法、零件的制造方法、以及半导体零件的制造方法 [P]. 
影泽幸一 ;
李相哲 ;
久保拓梦 .
日本专利 :CN119110838A ,2024-12-10
[2]
磨粒及其选择方法、研磨液、多液式研磨液、研磨方法、零件的制造方法、以及半导体零件的制造方法 [P]. 
久保拓梦 ;
李相哲 ;
影泽幸一 ;
野村理行 .
日本专利 :CN119110790A ,2024-12-10
[3]
磨粒及其选择方法、研磨液、多液式研磨液、研磨方法、零件的制造方法、以及半导体零件的制造方法 [P]. 
影泽幸一 ;
李相哲 ;
久保拓梦 ;
野村理行 .
日本专利 :CN119110791A ,2024-12-10
[4]
磨粒及其选择方法、研磨液、多液式研磨液、研磨方法、零件的制造方法、以及半导体零件的制造方法 [P]. 
久保拓梦 ;
李相哲 ;
影泽幸一 ;
野村理行 .
日本专利 :CN119095932A ,2024-12-06
[5]
研磨液、研磨方法、零件的制造方法及半导体零件的制造方法 [P]. 
仓田悠都 ;
井上惠介 .
日本专利 :CN119096333A ,2024-12-06
[6]
研磨液、研磨方法、零件的制造方法及半导体零件的制造方法 [P]. 
荒田彰吾 ;
坂下雅弘 ;
市毛康裕 ;
星阳介 .
日本专利 :CN117480589A ,2024-01-30
[7]
研磨液、研磨方法、零件的制造方法及半导体零件的制造方法 [P]. 
荒田彰吾 ;
坂下雅弘 ;
市毛康裕 ;
星阳介 .
日本专利 :CN117693806A ,2024-03-12
[8]
研磨液、研磨方法、零件的制造方法及半导体零件的制造方法 [P]. 
荒田彰吾 ;
市毛康裕 .
日本专利 :CN117693807A ,2024-03-12
[9]
研磨液、研磨方法、零件的制造方法及半导体零件的制造方法 [P]. 
小沼平 ;
平尾昂平 ;
仓田靖 .
日本专利 :CN119234296A ,2024-12-31
[10]
研磨液、研磨液套组、研磨方法、零件的制造方法及半导体零件的制造方法 [P]. 
仓田悠都 .
日本专利 :CN119096334A ,2024-12-06
12345