一种用于铜蚀刻液的pH值调节装置

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN202323431534.3

申请日：

2023-12-15

公开(公告)号：

CN222043352U

公开(公告)日：

2024-11-22

发明(设计)人：

余娟娟吴际峰王维康何烨谦黄德新

申请人：

合肥中聚和成电子材料有限公司

申请人地址：

231600 安徽省合肥市肥东县合肥循环经济示范园长松路东

IPC主分类号：

C23F1/08

IPC分类号：

G05D21/02

代理机构：

广东省中源正拓专利代理事务所(普通合伙) 44748

代理人：

黄婷

法律状态：

专利权质押登记、变更及注销

国省代码：

安徽省合肥市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-07-25	专利权质押登记、变更及注销	专利权质押登记IPC(主分类):C23F 1/08登记号:Y2025980027550登记日:20250710出质人:合肥中聚和成光电材料股份有限公司质权人:中国工商银行股份有限公司肥东支行实用新型名称:一种用于铜蚀刻液的pH值调节装置申请日:20231215授权公告日:20241122
2024-11-22	授权	授权
2025-06-13	专利权人的姓名或者名称、国籍和地址的变更	专利权人的姓名或者名称、国籍和地址的变更IPC(主分类):C23F 1/08变更事项:专利权人变更前:合肥中聚和成电子材料有限公司变更后:合肥中聚和成光电材料股份有限公司变更事项:国家或地区变更前:中国变更后:中国变更事项:地址变更前:安徽省合肥市肥东县合肥循环经济示范园长松路东变更后:231600 安徽省合肥市肥东县合肥循环经济示范园长松路东

共 50 条

[1]

一种铜蚀刻液 [P].

张家明 ;

王维康 ;

何烨谦 ;

黄德新 .

中国专利 :CN117779036A ,2024-03-29

[2]

一种蚀刻速率稳定的铜蚀刻液 [P].

李少平 ;

钟昌东 ;

郝晓斌 ;

贺兆波 ;

张演哲 ;

张庭 ;

蔡步林 ;

万杨阳 ;

王书萍 ;

冯凯 ;

尹印 ;

李鑫 ;

景继磊 .

中国专利 :CN111647889A ,2020-09-11

[3]

一种长蚀刻寿命的铜蚀刻液 [P].

李少平 ;

钟昌东 ;

郝晓斌 ;

贺兆波 ;

张演哲 ;

张庭 ;

蔡步林 ;

万杨阳 ;

王书萍 ;

冯凯 ;

尹印 ;

李鑫 ;

景继磊 .

中国专利 :CN111647888A ,2020-09-11

[4]

一种无底切的铜蚀刻液 [P].

王锁 ;

吴际峰 ;

王维康 ;

何烨谦 ;

黄德新 ;

龚升 .

中国专利 :CN120384291A ,2025-07-29

[5]

一种糖化液的PH值调节装置 [P].

韦若云 ;

黄雪超 ;

张辉 ;

韦维 ;

龙权 ;

刘建敏 ;

陈雄文 .

中国专利 :CN220999669U ,2024-05-24

[6]

一种铜蚀刻液用双氧水稳定剂及铜蚀刻液 [P].

王锁 ;

吴际峰 ;

王维康 ;

何烨谦 ;

黄德新 ;

龚升 .

中国专利 :CN118422199A ,2024-08-02

[7]

一种选择性铜蚀刻液 [P].

王书萍 ;

钟昌东 ;

冯凯 ;

贺兆波 ;

张庭 ;

尹印 ;

万杨阳 ;

李鑫 .

中国专利 :CN113737183B ,2021-12-03

[8]

一种用于CPVC加工的pH值调节装置 [P].

陈子彦 ;

张友华 .

中国专利 :CN211770488U ,2020-10-27

[9]

一种用于铜蚀刻液中提取铜的设备 [P].

刘庆贵 .

中国专利 :CN214142489U ,2021-09-07

[10]

一种铜蚀刻液 [P].

李少平 ;

蔡步林 ;

贺兆波 ;

张演哲 ;

张庭 ;

万杨阳 ;

王书萍 ;

冯凯 ;

尹印 .

中国专利 :CN110644001A ,2020-01-03

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