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表面修飾ポリイミド多孔質膜、及び表面修飾ポリイミドの製造方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20230064824
申请日
:
2023-04-12
公开(公告)号
:
JP2024151472A
公开(公告)日
:
2024-10-25
发明(设计)人
:
UEMATSU TERUHIRO
HOSOYA MAMORU
AKIYAMA SATOSHI
KAWAMURA YOSHIJI
申请人
:
TOKYO OHKA KOGYO CO LTD
申请人地址
:
IPC主分类号
:
C08J9/40
IPC分类号
:
C08J7/00
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
ポリアミド酸溶液、ポリイミド膜、積層体、電子デバイス、ポリイミド膜の製造方法及び電子デバイスの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2025148279A
,2025-10-07
[2]
共重合ポリアミド−イミドフィルム、および共重合ポリアミド−イミドの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2014528490A
,2014-10-27
[3]
ポリヒドロキシイミドの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2010123066A1
,2012-10-25
[4]
ポリアミドの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2010032692A1
,2012-02-09
[5]
ポリアミド4の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2022126530A
,2022-08-30
[6]
ポリイミド前駆体[ja]
[P].
日本专利
:JP2025511794A
,2025-04-16
[7]
硬化性ポリイミド[ja]
[P].
日本专利
:JP2020525575A
,2020-08-27
[8]
ポリイミド系樹脂[ja]
[P].
KONUMA YUSUKE
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
SUMITOMO CHEMICAL CO
SUMITOMO CHEMICAL CO
KONUMA YUSUKE
;
YANAGISAWA MASAHIRO
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
SUMITOMO CHEMICAL CO
SUMITOMO CHEMICAL CO
YANAGISAWA MASAHIRO
;
TAKAOKA YUTA
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
SUMITOMO CHEMICAL CO
SUMITOMO CHEMICAL CO
TAKAOKA YUTA
;
NISHIOKA KOJI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
SUMITOMO CHEMICAL CO
SUMITOMO CHEMICAL CO
NISHIOKA KOJI
.
日本专利
:JP2024101973A
,2024-07-30
[9]
ポリアミド4の製造装置[ja]
[P].
日本专利
:JP2022126532A
,2022-08-30
[10]
ポリアミド樹脂の製造方法、ポリアミド樹脂、およびポリアミド樹脂組成物[ja]
[P].
日本专利
:JP2025131979A
,2025-09-10
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