表面修飾ポリイミド多孔質膜、及び表面修飾ポリイミドの製造方法[ja]

被引:0
申请号
JP20230064824
申请日
2023-04-12
公开(公告)号
JP2024151472A
公开(公告)日
2024-10-25
发明(设计)人
UEMATSU TERUHIRO HOSOYA MAMORU AKIYAMA SATOSHI KAWAMURA YOSHIJI
申请人
TOKYO OHKA KOGYO CO LTD
申请人地址
IPC主分类号
C08J9/40
IPC分类号
C08J7/00
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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共 50 条
[3]
ポリヒドロキシイミドの製造方法[ja] [P]. 
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[4]
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[5]
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[6]
ポリイミド前駆体[ja] [P]. 
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[7]
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[8]
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KONUMA YUSUKE ;
YANAGISAWA MASAHIRO ;
TAKAOKA YUTA ;
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[9]
ポリアミド4の製造装置[ja] [P]. 
日本专利 :JP2022126532A ,2022-08-30