一种基于阵列的光刻参数确定方法及系统

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202411108599.0

申请日：

2024-08-13

公开(公告)号：

CN118884782A

公开(公告)日：

2024-11-01

发明(设计)人：

陶一晨姚兆阳吴阳严振中庄卓

申请人：

赫智科技（苏州）有限公司

申请人地址：

215000 江苏省苏州市中国（江苏）自由贸易试验区苏州片区苏州工业园区新平街388号22幢5层08单元

IPC主分类号：

G03F7/20

IPC分类号：

代理机构：

广州三环专利商标代理有限公司 44202

代理人：

方秀琴

法律状态：

公开

国省代码：

江苏省苏州市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-11-01	公开	公开
2025-08-29	著录事项变更	著录事项变更IPC(主分类):G03F 7/20变更事项:申请人变更前:赫智科技（苏州）有限公司变更后:托托科技（苏州）有限公司变更事项:国家或地区变更前:中国变更后:中国变更事项:地址变更前:215000 江苏省苏州市中国（江苏）自由贸易试验区苏州片区苏州工业园区新平街388号22幢5层08单元变更后:215000 江苏省苏州市中国（江苏）自由贸易试验区苏州片区苏州工业园区新平街388号22幢5层08单元
2025-09-26	授权	授权
2024-11-19	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):G03F 7/20申请日:20240813

共 50 条

[1]

一种基于阵列的光刻参数确定方法及系统 [P].

陶一晨 ;

姚兆阳 ;

吴阳 ;

严振中 ;

庄卓 .

中国专利 :CN118884782B ,2025-09-26

[2]

基于聚酰亚胺的光刻工艺参数确定方法 [P].

梅飞雄 ;

顾连明 ;

王振 ;

邹雨林 .

中国专利 :CN118151487A ,2024-06-07

[3]

光刻工艺参数确定方法及装置 [P].

操彬彬 ;

黄文同 ;

黄寅虎 ;

赵娜 .

中国专利 :CN103135364A ,2013-06-05

[4]

一种参数确定方法及系统 [P].

鞠彦伟 .

中国专利 :CN108920989B ,2018-11-30

[5]

一种基于拟合模型的云参数确定方法及系统 [P].

蔡宏珂 ;

祝宣浩 ;

毛雅琴 ;

陈权亮 .

中国专利 :CN114332651B ,2022-04-12

[6]

自动获取光刻参数的光刻系统及光刻方法 [P].

陈辉 .

中国专利 :CN103365102B ,2013-10-23

[7]

一种音响参数确定方法及系统 [P].

陈炳青 .

中国专利 :CN120050570A ,2025-05-27

[8]

一种滑坡参数确定方法及系统 [P].

李振洪 ;

陈博 ;

宋闯 ;

朱武 ;

余琛 ;

丁明涛 ;

杜建涛 ;

张成龙 .

中国专利 :CN117741661A ,2024-03-22

[9]

阵列线圈的激发参数确定及激发方法、装置 [P].

徐雅洁 ;

王亚 ;

杨晓冬 .

中国专利 :CN109725271A ,2019-05-07

[10]

一种基于眼底相机的参数确定方法、系统及智能终端 [P].

马孟鸿 ;

沃圣杰 ;

俞钱斌 ;

梅建国 .

中国专利 :CN116138729B ,2024-10-18

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