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衬底处理装置、加热器、存储介质及衬底处理方法
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202110189926.X
申请日：
2015-02-25
公开(公告)号：
CN112768385B
公开(公告)日：
2024-11-29
发明(设计)人：
村田等
八幡橘
和田优一
山口天和
西堂周平
申请人：
株式会社国际电气
申请人地址：
日本东京都
IPC主分类号：
H01L21/67
IPC分类号：
H01L21/673
H01L21/02
H01L21/31
H01L21/324
C23C16/34
C23C16/455
C23C16/46
代理机构：
北京市金杜律师事务所 11256
代理人：
杨宏军;李文屿
法律状态：
授权
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2024-11-29 | 授权 | 授权 |