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用于微光刻投射曝光装置的反射镜

被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202080044303.7
申请日：
2020-06-09
公开(公告)号：
CN114008510B
公开(公告)日：
2024-11-22
发明(设计)人：
H.M.斯蒂潘 T.格鲁纳
申请人：
卡尔蔡司SMT有限责任公司
申请人地址：
德国上科亨
IPC主分类号：
G02B26/08
IPC分类号：
G03F7/20
代理机构：
北京市柳沈律师事务所 11105
代理人：
王蕊瑞
法律状态：
授权
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2024-11-22 授权 授权
共 50 条
[1]
尤其是用于微光刻投射曝光装置的反射镜 [P]. 
H.M.斯蒂潘 ;
T.格鲁纳 .
中国专利 :CN114008510A ,2022-02-01
[2]
反射镜、特别是用于微光刻投射曝光设备的反射镜 [P]. 
T·格鲁纳 ;
N·巴尔 ;
K·范伯克尔 ;
L·J·A·范博克霍文 ;
M·洛伦兹 ;
T·蒙兹 ;
E·施奈德 ;
H-M·斯蒂潘 ;
B·斯特里夫柯克 .
德国专利 :CN115997170B ,2025-11-04
[3]
反射镜、特别是微光刻投射曝光设备的反射镜 [P]. 
A.贡查尔 .
中国专利 :CN107533301B ,2018-01-02
[4]
反射镜，特别是微光刻投射曝光设备的反射镜 [P]. 
J.利珀特 ;
T.格鲁纳 ;
K.希尔德 .
中国专利 :CN110462524B ,2019-11-15
[5]
反射镜，特别是微光刻投射曝光系统的反射镜 [P]. 
K.希尔德 ;
T.格鲁纳 ;
V.施克洛弗 .
中国专利 :CN112088322A ,2020-12-15
[6]
具有至少两镜面的反射镜的制造方法、用于微光刻的投射曝光装置的反射镜及投射曝光装置 [P]. 
J.赫茨勒 ;
R.米勒 ;
W.辛格 .
中国专利 :CN102725673B ,2012-10-10
[7]
特别是用于微光刻投射曝光系统的反射镜 [P]. 
B.威利-范艾尔德 ;
F.比杰柯克 ;
K.希尔德 ;
T.格鲁纳 ;
S.舒尔特 ;
S.韦勒 .
德国专利 :CN110998452B ,2025-04-29
[8]
特别是用于微光刻投射曝光系统的反射镜 [P]. 
J·韦伯 ;
S·德皮施 ;
M·利林布伦姆 ;
R·施蒂纳 ;
J·哈克尔 .
德国专利 :CN119256269A ,2025-01-03
[9]
特别是用于微光刻投射曝光系统的反射镜 [P]. 
B.威利-范艾尔德 ;
F.比杰柯克 ;
K.希尔德 ;
T.格鲁纳 ;
S.舒尔特 ;
S.韦勒 .
中国专利 :CN110998452A ,2020-04-10
[10]
用于投射曝光装置的反射镜 [P]. 
V·J·博尔辛格 ;
S·霍夫曼 .
德国专利 :CN119522384A ,2025-02-25
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