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一种晶圆清洗机台
被引:0
专利类型
:
实用新型
申请号
:
CN202420743394.9
申请日
:
2024-04-10
公开(公告)号
:
CN222071891U
公开(公告)日
:
2024-11-26
发明(设计)人
:
陈嘉勇
申请人
:
合肥晶合集成电路股份有限公司
申请人地址
:
230000 安徽省合肥市新站区合肥综合保税区内西淝河路88号
IPC主分类号
:
H01L21/67
IPC分类号
:
H01L21/687
代理机构
:
上海汉之律师事务所 31378
代理人
:
胡雨
法律状态
:
授权
国省代码
:
天津市 市辖区
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2024-11-26
授权
授权
共 50 条
[1]
一种晶圆清洗机台
[P].
朱李鹏
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
盛合晶微半导体(江阴)有限公司
盛合晶微半导体(江阴)有限公司
朱李鹏
;
蒋橙澄
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机构:
盛合晶微半导体(江阴)有限公司
盛合晶微半导体(江阴)有限公司
蒋橙澄
;
仲树根
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机构:
盛合晶微半导体(江阴)有限公司
盛合晶微半导体(江阴)有限公司
仲树根
;
刘志强
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机构:
盛合晶微半导体(江阴)有限公司
盛合晶微半导体(江阴)有限公司
刘志强
.
中国专利
:CN223624940U
,2025-12-02
[2]
晶圆清洗机台
[P].
杨志勇
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杨志勇
;
何永根
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何永根
.
中国专利
:CN205845907U
,2016-12-28
[3]
晶圆清洗机台
[P].
吕慧超
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吕慧超
;
高英哲
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高英哲
;
刘家桦
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刘家桦
.
中国专利
:CN209487474U
,2019-10-11
[4]
一种晶圆清洗机台
[P].
袁林涛
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袁林涛
;
张文福
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张文福
;
高英哲
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高英哲
.
中国专利
:CN208014670U
,2018-10-26
[5]
一种半导体晶圆清洗机台
[P].
翟文龙
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翟文龙
.
中国专利
:CN216297286U
,2022-04-15
[6]
晶圆清洗机台及其晶圆清洗方法
[P].
吕相林
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吕相林
.
中国专利
:CN110223944A
,2019-09-10
[7]
一种自清洁式晶圆清洗机台
[P].
周志刚
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周志刚
;
王静强
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王静强
;
徐福兴
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徐福兴
;
黄锡钦
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黄锡钦
;
陈亮
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陈亮
.
中国专利
:CN217369466U
,2022-09-06
[8]
一种晶圆清洗机
[P].
王会敏
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王会敏
;
何京辉
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何京辉
;
李立伟
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李立伟
;
张立涛
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张立涛
;
张稳
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张稳
;
尚玉晓
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尚玉晓
.
中国专利
:CN205718209U
,2016-11-23
[9]
一种晶圆清洗机用机台
[P].
黄运军
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黄运军
.
中国专利
:CN112309950B
,2021-02-02
[10]
静电消除装置以及晶圆清洗机台
[P].
季文明
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机构:
上海新昇半导体科技有限公司
上海新昇半导体科技有限公司
季文明
;
李晓艳
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机构:
上海新昇半导体科技有限公司
上海新昇半导体科技有限公司
李晓艳
;
任树朝
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机构:
上海新昇半导体科技有限公司
上海新昇半导体科技有限公司
任树朝
.
中国专利
:CN223066129U
,2025-07-04
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