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EUV辐射源和相关方法

被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN201980094116.7
申请日：
2019-12-19
公开(公告)号：
CN113661446B
公开(公告)日：
2024-12-06
发明(设计)人：
W·乌巴克斯 O·O·弗索拉托
申请人：
ASML荷兰有限公司
申请人地址：
荷兰维德霍温
IPC主分类号：
G03F7/20
IPC分类号：
H05G2/00
代理机构：
北京市金杜律师事务所 11256
代理人：
赵林琳
法律状态：
授权
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2024-12-06 授权 授权
共 50 条
[1]
EUV辐射源和相关方法 [P]. 
W·乌巴克斯 ;
O·O·弗索拉托 .
中国专利 :CN113661446A ,2021-11-16
[2]
EUV辐射源 [P]. 
拉尔斯·彼得·本克 .
中国专利 :CN115552335A ,2022-12-30
[3]
辐射源 [P]. 
A·M·雅库尼恩 ;
J·A·C·M·皮耶宁堡 ;
C.G.N.H.M.柯林 .
中国专利 :CN111108815A ,2020-05-05
[4]
EUV辐射源以及EUV辐射产生方法 [P]. 
A·亚库宁 ;
V·班尼恩 ;
V·伊万诺夫 ;
K·科舍廖夫 ;
V·克里夫特苏恩 ;
D·克拉什科夫 .
中国专利 :CN102823330A ,2012-12-12
[5]
EUV辐射源和光刻设备 [P]. 
E·鲁普斯特拉 ;
G·斯温克尔斯 ;
E·布雷曼 ;
W·梅斯特龙 .
中国专利 :CN102714911A ,2012-10-03
[6]
辐射源 [P]. 
D·库日洛维奇 ;
O·O·维尔索拉托 ;
T·皮涅罗德法利亚斯平托 ;
S·M·维特 .
中国专利 :CN111788868A ,2020-10-16
[7]
辐射源 [P]. 
D·库日洛维奇 ;
O·O·维尔索拉托 ;
T·皮涅罗德法利亚斯平托 ;
S·M·维特 .
:CN111788868B ,2024-05-28
[8]
极紫外（EUV）辐射源 [P]. 
V·V·德什潘德 ;
S·V·德什潘德 ;
D·克利斯 ;
O·格鲁申克夫 ;
S·克里什南 .
中国专利 :CN106605450A ,2017-04-26
[9]
辐射源 [P]. 
H·M·米尔德 ;
M·A·范德柯克霍夫 .
中国专利 :CN110692283A ,2020-01-14
[10]
辐射源 [P]. 
R·L·唐克 ;
H-K·尼恩惠斯 .
中国专利 :CN111133840A ,2020-05-08
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