二胺化合物、制备二胺化合物的方法及二胺化合物的应用

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202110234804.8

申请日：

2021-03-03

公开(公告)号：

CN113372230B

公开(公告)日：

2024-10-25

发明(设计)人：

郑凯声廖元利陈又铭郭昱莹程绍奇

申请人：

达兴材料股份有限公司

申请人地址：

中国台湾台中市

IPC主分类号：

C07C217/90

IPC分类号：

C07C213/02 C08G73/10 C08G73/16 C08J5/18 C08L79/08

代理机构：

北京市柳沈律师事务所 11105

代理人：

宋莉

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-10-25	授权	授权

共 50 条

[1]

二胺化合物、制备二胺化合物的方法及二胺化合物的应用 [P].

郑凯声 ;

廖元利 ;

陈又铭 ;

郭昱莹 ;

程绍奇 .

中国专利 :CN113372230A ,2021-09-10

[2]

二胺化合物、二胺化合物的制造方法和聚酰亚胺 [P].

佐藤义昌 ;

高桥浩司 ;

青山悟 ;

柏原徹也 .

中国专利 :CN110612282A ,2019-12-24

[3]

二胺化合物的制备方法 [P].

曾露 ;

于宗仟 ;

谢坚韧 ;

张小兵 ;

张峻维 ;

李喜田 .

中国专利 :CN114716326A ,2022-07-08

[4]

二胺化合物的制备方法 [P].

曾露 ;

于宗仟 ;

谢坚韧 ;

张小兵 ;

张峻维 ;

李喜田 .

中国专利 :CN114716326B ,2024-01-05

[5]

二胺化合物和包括该二胺化合物的有机发光器件 [P].

金锺佑 ;

金东俊 ;

白长烈 ;

郑恩在 ;

韩相铉 ;

金荣国 ;

黄皙焕 .

中国专利 :CN110416426A ,2019-11-05

[6]

二胺化合物和包含所述二胺化合物的有机发光装置 [P].

金锺佑 ;

金东俊 ;

金荣国 ;

郑恩在 ;

韩相铉 .

韩国专利 :CN110615776B ,2024-05-28

[7]

二胺化合物和包含所述二胺化合物的有机发光装置 [P].

金锺佑 ;

金东俊 ;

金荣国 ;

郑恩在 ;

韩相铉 .

中国专利 :CN110615776A ,2019-12-27

[8]

二胺化合物和包括该二胺化合物的有机发光器件 [P].

金锺佑 ;

金东俊 ;

白长烈 ;

郑恩在 ;

韩相铉 ;

金荣国 ;

黄皙焕 .

韩国专利 :CN110416426B ,2024-04-16

[9]

二胺化合物的制造方法 [P].

峠太一郎 ;

袴田智彦 ;

奈良秀树 .

中国专利 :CN103502208A ,2014-01-08

[10]

一种二胺化合物的合成方法及其制备的二胺化合物 [P].

许磊 ;

王维康 ;

黄德新 ;

齐鹏 ;

左锐 ;

陈正燃 ;

操岳峰 .

中国专利 :CN114835587A ,2022-08-02

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