基板を処理する際の均一性を制御するためのフェーズドアレイアンテナおよび方法[ja]

被引:0
申请号
JP20240524369
申请日
2022-10-18
公开(公告)号
JP2024538225A
公开(公告)日
2024-10-18
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
H05H1/46
IPC分类号
H01L21/3065 H01L21/31
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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共 50 条
[1]
基板を処理するための方法及び装置[ja] [P]. 
日本专利 :JP2023530308A ,2023-07-14
[2]
光制御型フェーズドアレーアンテナ装置[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2004107567A1 ,2006-07-20
[3]
[5]
[6]
[7]
[8]
処理チャンバを洗浄するための方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP2022519702A ,2022-03-24