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基板を処理する際の均一性を制御するためのフェーズドアレイアンテナおよび方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20240524369
申请日
:
2022-10-18
公开(公告)号
:
JP2024538225A
公开(公告)日
:
2024-10-18
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
H05H1/46
IPC分类号
:
H01L21/3065
H01L21/31
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
基板を処理するための方法及び装置[ja]
[P].
日本专利
:JP2023530308A
,2023-07-14
[2]
光制御型フェーズドアレーアンテナ装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2004107567A1
,2006-07-20
[3]
ロストフレームを処理するための方法および復号器[ja]
[P].
日本专利
:JP2016529542A
,2016-09-23
[4]
固定給電アンテナを備えたフェーズドアンテナアレイシステム[ja]
[P].
日本专利
:JP2022511599A
,2022-02-01
[5]
均一性を実現するためのデューティサイクル制御[ja]
[P].
日本专利
:JP2024507722A
,2024-02-21
[6]
送信モジュールおよびフェーズドアレイアンテナ装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2011108103A1
,2013-06-20
[7]
プラズマ処理システムのためのアンテナアレイ構成[ja]
[P].
日本专利
:JP2016530699A
,2016-09-29
[8]
処理チャンバを洗浄するための方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2022519702A
,2022-03-24
[9]
2つのアンテナ及び3つのポートを有するアンテナシステム[ja]
[P].
日本专利
:JP3204336U
,2016-06-02
[10]
基板処理において均一性を実現する変圧器の使用のためのシステム及び方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2023504439A
,2023-02-03
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