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化学气相沉积设备
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202411199324.2
申请日
:
2024-08-29
公开(公告)号
:
CN119082867A
公开(公告)日
:
2024-12-06
发明(设计)人
:
卓倩倩
申请人
:
西安奕斯伟材料科技股份有限公司
申请人地址
:
710065 陕西省西安市高新区西沣南路1888号1-3-029室
IPC主分类号
:
C30B29/06
IPC分类号
:
C30B29/36
C30B25/16
代理机构
:
西安维英格知识产权代理事务所(普通合伙) 61253
代理人
:
沈寒酉;李斌栋
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
江苏省 常州市
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2024-12-24
实质审查的生效
实质审查的生效IPC(主分类):C30B 29/06申请日:20240829
2024-12-06
公开
公开
共 50 条
[1]
化学气相沉积炉及化学气相沉积设备
[P].
朱伟杰
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朱伟杰
;
顾志强
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顾志强
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戴建庭
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戴建庭
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董宁
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董宁
;
李强
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李强
.
中国专利
:CN209522919U
,2019-10-22
[2]
化学气相沉积设备
[P].
金昶成
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金昶成
;
刘相德
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刘相德
;
洪钟波
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洪钟波
;
沈智慧
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沈智慧
;
李元申
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李元申
.
中国专利
:CN102230167A
,2011-11-02
[3]
化学气相沉积设备
[P].
梁秉文
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梁秉文
.
中国专利
:CN202705462U
,2013-01-30
[4]
化学气相沉积设备
[P].
裴绍凯
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裴绍凯
.
中国专利
:CN102108498B
,2011-06-29
[5]
化学气相沉积设备
[P].
胡昌义
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胡昌义
;
雷春明
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雷春明
;
毛勇
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毛勇
;
郭锦新
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郭锦新
;
李靖华
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李靖华
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周世平
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周世平
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徐云
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徐云
;
王云
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王云
;
欧阳远良
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欧阳远良
.
中国专利
:CN2851277Y
,2006-12-27
[6]
化学气相沉积设备
[P].
朱人伟
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机构:
合肥晶合集成电路股份有限公司
合肥晶合集成电路股份有限公司
朱人伟
;
杨军
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机构:
合肥晶合集成电路股份有限公司
合肥晶合集成电路股份有限公司
杨军
;
朱瑶
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合肥晶合集成电路股份有限公司
合肥晶合集成电路股份有限公司
朱瑶
;
胡万春
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机构:
合肥晶合集成电路股份有限公司
合肥晶合集成电路股份有限公司
胡万春
.
中国专利
:CN222250974U
,2024-12-27
[7]
化学气相沉积设备
[P].
张祥来
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张祥来
;
李相琝
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李相琝
.
中国专利
:CN101591774A
,2009-12-02
[8]
化学气相沉积设备
[P].
杨贤烁
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机构:
乐金显示光电科技(中国)有限公司
乐金显示光电科技(中国)有限公司
杨贤烁
.
中国专利
:CN221275883U
,2024-07-05
[9]
化学气相沉积设备
[P].
周向阳
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机构:
乐金显示光电科技(中国)有限公司
乐金显示光电科技(中国)有限公司
周向阳
.
中国专利
:CN223176201U
,2025-08-01
[10]
化学气相沉积设备
[P].
梁秉文
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梁秉文
.
中国专利
:CN103074615A
,2013-05-01
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