光催化剂构件

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202380027226.8

申请日：

2023-03-24

公开(公告)号：

CN118891099A

公开(公告)日：

2024-11-01

发明(设计)人：

若生仁志

申请人：

迪睿合株式会社

申请人地址：

日本

IPC主分类号：

B01J23/10

IPC分类号：

B01J35/39 B01J37/025 C23C14/08 C23C14/34

代理机构：

北京挚诚信奉知识产权代理有限公司 11338

代理人：

严星铁;徐月

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-11-01	公开	公开
2024-11-19	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):B01J 23/10申请日:20230324

共 50 条

[1]

光催化剂构件 [P].

安崎利明 ;

木岛义文 .

中国专利 :CN100482346C ,2006-09-13

[2]

光催化剂涂布液、光催化剂膜和光催化剂构件 [P].

田中尚树 ;

铃木宏和 ;

小池匡 .

中国专利 :CN100381527C ,2005-11-23

[3]

载有光催化剂的构件和光催化剂涂敷材料 [P].

木村信夫 ;

阿部真治 ;

吉本哲夫 ;

深山重道 .

中国专利 :CN1081490C ,1998-07-22

[4]

光催化剂、光催化剂负载体、光催化剂的制造方法及光催化剂负载体的制造方法 [P].

胜又典亮 ;

松浦洋航 ;

和田昇 ;

阿部龙 ;

富田修 ;

繁光将也 .

中国专利 :CN110997140A ,2020-04-10

[5]

光催化剂模块、光催化剂模块的生产方法以及光催化剂反应装置 [P].

村田逞诠 ;

菊地真道 ;

樱井和寿 ;

阿部一雄 .

中国专利 :CN1378878A ,2002-11-13

[6]

光催化剂涂层 [P].

玉冈益健 .

中国专利 :CN102821944A ,2012-12-12

[7]

光催化剂材料 [P].

冈崎真也 ;

西中浩之 ;

松林雅和 .

中国专利 :CN105163848A ,2015-12-16

[8]

光催化剂材料 [P].

冈崎真也 ;

西中浩之 ;

松林雅和 .

中国专利 :CN110354844A ,2019-10-22

[9]

光催化剂 [P].

程作联 ;

陶涌 ;

丁国荣 ;

尹希江 ;

单单 .

中国专利 :CN104066510A ,2014-09-24

[10]

光催化剂 [P].

R·沃尔姆伯格 ;

K·舒马赫 .

中国专利 :CN101242894A ,2008-08-13

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