等离子体处理装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202011046672.8

申请日：

2020-09-29

公开(公告)号：

CN112652512B

公开(公告)日：

2024-11-08

发明(设计)人：

池田太郎江原宽贵

申请人：

东京毅力科创株式会社

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

H01J37/32

IPC分类号：

代理机构：

北京尚诚知识产权代理有限公司 11322

代理人：

龙淳;刘芃茜

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-11-08	授权	授权

共 50 条

[1]

等离子体处理装置 [P].

池田太郎 ;

江原宽贵 .

中国专利 :CN112652512A ,2021-04-13

[2]

等离子体处理装置 [P].

松浦广行 ;

加藤寿 .

中国专利 :CN100524641C ,2006-06-21

[3]

等离子体处理装置、等离子体处理方法 [P].

石川拓 ;

户部康弘 .

中国专利 :CN101622698B ,2010-01-06

[4]

等离子体处理装置及等离子体处理方法 [P].

平山昌树 ;

大见忠弘 .

中国专利 :CN102057465A ,2011-05-11

[5]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

东条利洋 ;

藤井祐希 .

中国专利 :CN107275179A ,2017-10-20

[6]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

堀口贵弘 ;

冈信介 .

中国专利 :CN100536634C ,2006-11-15

[7]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

金子和史 .

中国专利 :CN114302547A ,2022-04-08

[8]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

里吉务 ;

佐藤亮 ;

佐佐木和男 ;

齐藤均 .

中国专利 :CN100543944C ,2005-11-09

[9]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

平山昌树 .

中国专利 :CN113170568A ,2021-07-23

[10]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

米泽亮太 ;

高桥哲朗 ;

大崎良规 ;

铃木公贵 ;

齐藤智博 ;

山下润 ;

佐藤吉宏 ;

盐泽俊彦 ;

山崎幸一 ;

古木和弘 .

中国专利 :CN102753727A ,2012-10-24

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