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アニオン性研磨剤を含むCMP組成物[ja]
被引:0
申请号
:
JP20240512077
申请日
:
2022-08-25
公开(公告)号
:
JP2024530724A
公开(公告)日
:
2024-08-23
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
H01L21/304
IPC分类号
:
C09K3/14
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
アニオン性及びカチオン性抑制剤を含むCMP組成物[ja]
[P].
日本专利
:JP2023536475A
,2023-08-25
[2]
アニオン性及びカチオン性抑制剤を含むCMP組成物[ja]
[P].
日本专利
:JP2025172062A
,2025-11-20
[3]
硫黄含有アニオン性界面活性剤を含むタングステンCMP組成物[ja]
[P].
日本专利
:JP2025531390A
,2025-09-19
[4]
アニオン界面活性剤組成物[ja]
[P].
日本专利
:JP5823242B2
,2015-11-25
[5]
アニオン界面活性剤組成物[ja]
[P].
日本专利
:JP5823241B2
,2015-11-25
[6]
アニオン界面活性剤組成物[ja]
[P].
日本专利
:JP5823240B2
,2015-11-25
[7]
両性界面活性剤を含む研磨用組成物[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2018193916A1
,2020-04-23
[8]
両性界面活性剤を含む研磨用組成物[ja]
[P].
日本专利
:JP7148849B2
,2022-10-06
[9]
非イオン性界面活性剤を含む低pH洗剤組成物[ja]
[P].
日本专利
:JP2016520698A
,2016-07-14
[10]
非イオン性界面活性剤を含む低pH洗剤組成物[ja]
[P].
日本专利
:JP6138355B2
,2017-05-31
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