アニオン性研磨剤を含むCMP組成物[ja]

被引:0
申请号
JP20240512077
申请日
2022-08-25
公开(公告)号
JP2024530724A
公开(公告)日
2024-08-23
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
H01L21/304
IPC分类号
C09K3/14
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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共 50 条
[4]
アニオン界面活性剤組成物[ja] [P]. 
日本专利 :JP5823242B2 ,2015-11-25
[5]
アニオン界面活性剤組成物[ja] [P]. 
日本专利 :JP5823241B2 ,2015-11-25
[6]
アニオン界面活性剤組成物[ja] [P]. 
日本专利 :JP5823240B2 ,2015-11-25
[7]
両性界面活性剤を含む研磨用組成物[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2018193916A1 ,2020-04-23
[8]
両性界面活性剤を含む研磨用組成物[ja] [P]. 
日本专利 :JP7148849B2 ,2022-10-06
[9]
非イオン性界面活性剤を含む低pH洗剤組成物[ja] [P]. 
日本专利 :JP2016520698A ,2016-07-14
[10]