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光掩模用石英玻璃基板磁流变抛光后的清洗方法

被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202411309714.0
申请日：
2024-09-19
公开(公告)号：
CN119259542A
公开(公告)日：
2025-01-07
发明(设计)人：
李明俊 孙世轩 单佩 刘书常 芦可可 关蕾 黄芸
申请人：
济南光微半导体科技有限公司
申请人地址：
250100 山东省济南市高新区临港街道机场路7617号西楼218-04-66号
IPC主分类号：
B08B3/02
IPC分类号：
B08B3/04 B08B3/12 B08B11/04 B08B3/08
代理机构：
北京君慧知识产权代理事务所(普通合伙) 11716
代理人：
邢伟
法律状态：
实质审查的生效
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2025-01-24 实质审查的生效 实质审查的生效IPC(主分类):B08B 3/02申请日:20240919
2025-01-07 公开 公开
共 50 条
[1]
一种大尺寸光掩模石英玻璃基板抛光装置 [P]. 
郇朝阳 ;
肖华 ;
钟媛 ;
王俊 ;
陆国森 ;
刘利 ;
黄加 ;
陈一彪 ;
张国保 .
中国专利 :CN119369208A ,2025-01-28
[2]
合成石英玻璃基板用的抛光剂及合成石英玻璃基板的抛光方法 [P]. 
高桥光人 .
中国专利 :CN111373006A ,2020-07-03
[3]
一种大尺寸光掩模石英玻璃基板抛光装置 [P]. 
郇朝阳 ;
肖华 ;
钟媛 ;
王俊 ;
陆国森 ;
刘利 ;
黄加 ;
陈一彪 ;
张国保 .
中国专利 :CN223572739U ,2025-11-21
[4]
合成石英玻璃基板用的抛光剂及其制备方法、以及合成石英玻璃基板的抛光方法 [P]. 
高桥光人 .
中国专利 :CN112004906A ,2020-11-27
[5]
合成石英玻璃基板用抛光剂 [P]. 
原田大实 ;
竹内正树 ;
柴野由纪夫 ;
上田修平 ;
渡部厚 .
中国专利 :CN101821058A ,2010-09-01
[6]
合成石英玻璃基板用的抛光剂及该抛光剂的制备方法、以及合成石英玻璃基板的抛光方法 [P]. 
高桥光人 .
中国专利 :CN115605554A ,2023-01-13
[7]
合成石英玻璃基板抛光浆液及采用该抛光浆液制造合成石英玻璃基板 [P]. 
松井晴信 ;
原田大实 ;
竹内正树 .
中国专利 :CN103173128B ,2013-06-26
[8]
合成石英玻璃基板抛光浆料和利用该抛光浆料制造合成石英玻璃基板 [P]. 
松井晴信 ;
原田大实 ;
竹内正树 .
中国专利 :CN102516872A ,2012-06-27
[9]
合成石英玻璃基板用研磨剂以及合成石英玻璃基板的研磨方法 [P]. 
高桥光人 ;
野岛义弘 .
中国专利 :CN107532066B ,2018-01-02
[10]
合成石英玻璃基板用研磨剂及合成石英玻璃基板的研磨方法 [P]. 
高桥光人 ;
野岛义弘 .
中国专利 :CN109104866A ,2018-12-28
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