低残余应力的高折射率负性OC光刻胶、光固化图案的制备方法和应用

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202411384731.0

申请日：

2024-09-30

公开(公告)号：

CN119126490A

公开(公告)日：

2024-12-13

发明(设计)人：

王艳茹雷霆王娜伊婷婷

申请人：

西安思摩威新材料有限公司

申请人地址：

712099 陕西省西安市西咸新区沣西新城西部云谷一期园区D2号楼(9号楼)1层

IPC主分类号：

G03F7/004

IPC分类号：

G02B3/00 G03F7/027

代理机构：

西安新动力知识产权代理事务所(普通合伙) 61245

代理人：

胡维

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

陕西省西安市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-12-31	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):G03F 7/004申请日:20240930
2024-12-13	公开	公开

共 50 条

[1]

负性高折射率OC光刻胶组合物、光固化图案的制备方法及应用 [P].

雷霆 ;

何鑫 .

中国专利 :CN117348342A ,2024-01-05

[2]

一种柔性高折射率负性OC光刻胶、光固化图案的制备方法及应用 [P].

雷霆 ;

何鑫 .

中国专利 :CN117369213A ,2024-01-09

[3]

一种无底切的高折射率负性OC光阻、光固化图案的制备方法和应用 [P].

王艳茹 ;

雷霆 ;

王娜 ;

伊婷婷 .

中国专利 :CN119846903B ,2025-12-26

[4]

一种无底切的高折射率负性OC光阻、光固化图案的制备方法和应用 [P].

王艳茹 ;

雷霆 ;

王娜 ;

伊婷婷 .

中国专利 :CN119846903A ,2025-04-18

[5]

光刻胶折射率的测定方法 [P].

王银萍 ;

张大伟 ;

李媛 ;

洪瑞金 ;

盛斌 ;

黄元申 ;

倪争技 ;

王琦 .

中国专利 :CN103196868A ,2013-07-10

[6]

高折射率的碱水可溶性树脂与制备方法及高折射率光刻胶 [P].

朱贤红 .

中国专利 :CN111100237A ,2020-05-05

[7]

高折射率光固化组合物及其制备方法和应用 [P].

穆广园 ;

龚文亮 ;

金江江 ;

高德稳 .

中国专利 :CN114031893A ,2022-02-11

[8]

高折射率光固化组合物及其制备方法和应用 [P].

穆广园 ;

龚文亮 ;

金江江 ;

高德稳 .

中国专利 :CN114031893B ,2024-05-14

[9]

一种高折射率双光子光刻胶组合物及其制备方法、应用 [P].

范学峰 ;

戴小强 ;

杜设明 ;

朱航 ;

卢奇 ;

沈闻捷 ;

何婷婷 ;

朱勤艳 ;

樊彬 .

中国专利 :CN117590693A ,2024-02-23

[10]

一种高折射率的紫外光固化树脂及其制备方法 [P].

朱焰焰 ;

马苹苹 ;

郑杰 ;

陈士冰 .

中国专利 :CN108003567A ,2018-05-08

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