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供液装置和供液系统
被引:0
专利类型
:
实用新型
申请号
:
CN202421174844.3
申请日
:
2024-05-28
公开(公告)号
:
CN222323998U
公开(公告)日
:
2025-01-10
发明(设计)人
:
毛志国
申请人
:
毛志国
申请人地址
:
414400 湖南省岳阳市汨罗市沙溪镇划力村红卫组08号
IPC主分类号
:
A61M1/16
IPC分类号
:
代理机构
:
深圳龙德知识产权代理事务所(普通合伙) 441066
代理人
:
王立红
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2025-01-10
授权
授权
共 50 条
[1]
供液装置和供液系统
[P].
黄助发
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厦门烟草工业有限责任公司
厦门烟草工业有限责任公司
黄助发
;
刘群
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厦门烟草工业有限责任公司
厦门烟草工业有限责任公司
刘群
;
朱有森
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厦门烟草工业有限责任公司
厦门烟草工业有限责任公司
朱有森
;
林朝辉
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厦门烟草工业有限责任公司
厦门烟草工业有限责任公司
林朝辉
;
唐永良
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厦门烟草工业有限责任公司
厦门烟草工业有限责任公司
唐永良
;
肖福成
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厦门烟草工业有限责任公司
厦门烟草工业有限责任公司
肖福成
;
贾龙强
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厦门烟草工业有限责任公司
厦门烟草工业有限责任公司
贾龙强
;
喻文俊
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厦门烟草工业有限责任公司
厦门烟草工业有限责任公司
喻文俊
;
郭一显
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厦门烟草工业有限责任公司
厦门烟草工业有限责任公司
郭一显
;
黄堡垒
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机构:
厦门烟草工业有限责任公司
厦门烟草工业有限责任公司
黄堡垒
.
中国专利
:CN223640157U
,2025-12-09
[2]
供液装置及供液系统
[P].
陈锐
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陈锐
;
张光辉
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张光辉
;
江宗哲
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江宗哲
.
中国专利
:CN210847005U
,2020-06-26
[3]
供液装置及供液系统
[P].
邱伟华
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邱伟华
;
尤如峰
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尤如峰
.
中国专利
:CN210726675U
,2020-06-12
[4]
一种研磨液供液装置、供液系统和供液方法
[P].
乐宇翔
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格科半导体(上海)有限公司
格科半导体(上海)有限公司
乐宇翔
;
张大鹏
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机构:
格科半导体(上海)有限公司
格科半导体(上海)有限公司
张大鹏
;
姚宏兵
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机构:
格科半导体(上海)有限公司
格科半导体(上海)有限公司
姚宏兵
.
中国专利
:CN120395695A
,2025-08-01
[5]
供液装置、供液系统以及成型系统
[P].
十真
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芝浦机械株式会社
芝浦机械株式会社
十真
;
丰岛俊昭
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芝浦机械株式会社
芝浦机械株式会社
丰岛俊昭
;
藤卷大助
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芝浦机械株式会社
芝浦机械株式会社
藤卷大助
;
野田三郎
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芝浦机械株式会社
芝浦机械株式会社
野田三郎
.
日本专利
:CN120112373A
,2025-06-06
[6]
供液装置和供液方法
[P].
高松祐助
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高松祐助
;
高木康弘
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高木康弘
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梅野慎一
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梅野慎一
;
福井祥吾
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福井祥吾
.
中国专利
:CN110520965A
,2019-11-29
[7]
透析浓缩液集中供液系统负压供液装置
[P].
沈志东
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沈志东
;
高国峰
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高国峰
;
郭美
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郭美
.
中国专利
:CN213374256U
,2021-06-08
[8]
集中供液系统
[P].
李然
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李然
;
王大龙
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王大龙
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韦文术
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韦文术
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王剑强
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王剑强
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刘波
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刘波
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郭新伟
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郭新伟
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王伟
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王伟
;
陈敬斌
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陈敬斌
.
中国专利
:CN113123829A
,2021-07-16
[9]
集中供液系统
[P].
邬迅
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邬迅
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孙伟
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孙伟
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施乃斌
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施乃斌
.
中国专利
:CN215146756U
,2021-12-14
[10]
供液系统
[P].
李丹菊
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李丹菊
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王玟琪
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王玟琪
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丁苇
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丁苇
.
中国专利
:CN217366557U
,2022-09-06
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