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集成电路和形成集成电路的方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202110216409.7
申请日
:
2021-02-26
公开(公告)号
:
CN113314562B
公开(公告)日
:
2024-12-24
发明(设计)人
:
陈胜昌
庄学理
王宏烵
黄胜煌
申请人
:
台湾积体电路制造股份有限公司
申请人地址
:
中国台湾新竹
IPC主分类号
:
H10B61/00
IPC分类号
:
H10N50/10
H10N50/01
代理机构
:
北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409
代理人
:
章社杲;李伟
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2024-12-24
授权
授权
共 50 条
[1]
集成电路和形成集成电路的方法
[P].
陈胜昌
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陈胜昌
;
庄学理
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庄学理
;
王宏烵
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王宏烵
;
黄胜煌
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黄胜煌
.
中国专利
:CN113314562A
,2021-08-27
[2]
集成电路和形成集成电路的方法
[P].
彭泰彦
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彭泰彦
;
杨心怡
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杨心怡
;
王辰戎
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王辰戎
;
陈玉树
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陈玉树
;
黃建中
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黃建中
;
林函廷
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林函廷
;
谢志宏
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谢志宏
;
丁致远
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丁致远
.
中国专利
:CN110970553A
,2020-04-07
[3]
集成电路及形成集成电路的方法
[P].
廖忠志
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廖忠志
.
中国专利
:CN101866685A
,2010-10-20
[4]
集成电路和形成该集成电路的方法
[P].
H·S·帕尔
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H·S·帕尔
;
E·艾舒恩
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E·艾舒恩
;
S·S·艾博特
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S·S·艾博特
.
中国专利
:CN105378935A
,2016-03-02
[5]
集成电路和形成集成电路的方法
[P].
陈侠威
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
陈侠威
;
朱文定
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
朱文定
;
廖钰文
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
廖钰文
.
中国专利
:CN117560931A
,2024-02-13
[6]
集成电路和形成集成电路的方法
[P].
陈侠威
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陈侠威
;
朱文定
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朱文定
;
廖钰文
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廖钰文
.
中国专利
:CN109390465A
,2019-02-26
[7]
集成电路和形成集成电路的方法
[P].
彭士玮
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彭士玮
;
庄正吉
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庄正吉
;
赖志明
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赖志明
;
曾健庭
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曾健庭
;
林威呈
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林威呈
.
中国专利
:CN110729289B
,2020-01-24
[8]
集成电路和形成集成电路的方法
[P].
庄惠中
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庄惠中
;
江庭玮
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江庭玮
;
鲁立忠
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鲁立忠
;
田丽钧
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田丽钧
;
陈顺利
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陈顺利
.
中国专利
:CN107833881A
,2018-03-23
[9]
集成电路和形成集成电路的方法
[P].
T.德策尔
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T.德策尔
;
J.格罗斯
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J.格罗斯
;
R.伊林
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R.伊林
;
M.克鲁格
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M.克鲁格
;
S.兰策施托费尔
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S.兰策施托费尔
;
M.内尔海贝尔
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M.内尔海贝尔
;
W.罗布尔
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W.罗布尔
;
M.罗加利
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M.罗加利
;
S.韦勒特
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S.韦勒特
.
中国专利
:CN103165574B
,2013-06-19
[10]
集成电路以及形成集成电路的方法
[P].
吴伟成
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吴伟成
;
张健宏
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张健宏
.
中国专利
:CN107425001A
,2017-12-01
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