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光刻胶底部抗反射涂层聚合物、制备方法及组合物和应用

被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202411649151.X
申请日：
2024-11-19
公开(公告)号：
CN119165732B
公开(公告)日：
2025-01-28
发明(设计)人：
付海超 赵洪祥 衣同兴 孙铭鳌 安延晓
申请人：
中节能万润股份有限公司
申请人地址：
264006 山东省烟台市经济技术开发区五指山路11号
IPC主分类号：
G03F7/09
IPC分类号：
C09D179/04
代理机构：
北京中创博腾知识产权代理事务所(普通合伙) 11636
代理人：
初晓玮
法律状态：
实质审查的生效
国省代码：
安徽省 宣城市
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2025-01-07 实质审查的生效 实质审查的生效IPC(主分类):G03F 7/09申请日:20241119
2024-12-20 公开 公开
2025-01-28 授权 授权
共 50 条
[1]
光刻胶底部抗反射涂层聚合物、制备方法及组合物和应用 [P]. 
付海超 ;
赵洪祥 ;
衣同兴 ;
孙铭鳌 ;
安延晓 .
中国专利 :CN119165732A ,2024-12-20
[2]
用于光刻胶底部抗反射涂层的聚合物及制备方法和应用 [P]. 
房立平 ;
陈帅 ;
张鹏程 ;
张钊 ;
朱晓利 .
中国专利 :CN117872680B ,2024-05-10
[3]
用于光刻胶底部抗反射涂层的聚合物及制备方法和应用 [P]. 
房立平 ;
陈帅 ;
张鹏程 ;
张钊 ;
朱晓利 .
中国专利 :CN117872680A ,2024-04-12
[4]
一种光刻胶底部抗反射膜聚合物、制备方法及组合物 [P]. 
马晓明 ;
王政 ;
陈玉 ;
赵艳贺 ;
彭镇文 ;
陈纪圆 .
中国专利 :CN120518842A ,2025-08-22
[5]
一种光刻胶顶层涂层聚合物、制备方法及组合物和应用 [P]. 
付海超 ;
赵洪祥 ;
曹晓雷 ;
杨丽 ;
刘锁伟 ;
杨德志 .
中国专利 :CN117447885B ,2024-04-09
[6]
一种光刻胶顶层涂层聚合物、制备方法及组合物和应用 [P]. 
付海超 ;
赵洪祥 ;
曹晓雷 ;
杨丽 ;
刘锁伟 ;
杨德志 .
中国专利 :CN117447885A ,2024-01-26
[7]
交联聚合物、有机抗反射涂层组合物及形成光刻胶图案的方法 [P]. 
郑载昌 ;
卜喆圭 ;
文承灿 ;
申起秀 .
中国专利 :CN1637601A ,2005-07-13
[8]
一种用于ArF光刻胶聚合物及制备方法和光刻胶组合物 [P]. 
张鹏程 ;
杨丽 ;
孙晟源 ;
刘文昭 ;
陈帅 .
中国专利 :CN120965929A ,2025-11-18
[9]
一种用于ArF光刻胶的聚合物及其制备方法和光刻胶组合物 [P]. 
张鹏程 ;
王国政 ;
刘文昭 ;
岳彩利 ;
陈帅 .
中国专利 :CN119708332A ,2025-03-28
[10]
光刻胶聚合物组合物 [P]. 
D·伯努瓦 ;
A·萨菲尔 ;
H·－T·常 ;
D·查莫特 ;
西村功 ;
征矢野晃雅 ;
岡本健司 ;
王勇 .
中国专利 :CN1845941A ,2006-10-11
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