一种碳化硅产品烧结炉用托架装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202411898265.8

申请日：

2024-12-23

公开(公告)号：

CN119334153A

公开(公告)日：

2025-01-21

发明(设计)人：

王兴陈光伟

申请人：

辽宁汉京半导体材料有限公司

申请人地址：

110027 辽宁省沈阳市沈阳经济技术开发区昆明湖街20号（全部）一层

IPC主分类号：

F27D5/00

IPC分类号：

F27D7/02 F27B17/00

代理机构：

北京集知天成知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11681

代理人：

戴传军

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-02-14	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):F27D 5/00申请日:20241223
2025-03-11	授权	授权
2025-01-21	公开	公开

共 50 条

[1]

一种碳化硅产品烧结炉用托架装置 [P].

王兴 ;

陈光伟 .

中国专利 :CN119334153B ,2025-03-11

[2]

一种碳化硅产品烧结炉及烧结方法 [P].

李庆甲 ;

韩玉 ;

高振国 .

中国专利 :CN118168329A ,2024-06-11

[3]

一种碳化硅产品烧结炉及烧结方法 [P].

李庆甲 ;

韩玉 ;

高振国 .

中国专利 :CN118168329B ,2024-07-12

[4]

一种碳化硅烧结炉 [P].

马红彬 ;

陈志伟 ;

李乐乐 .

中国专利 :CN206609279U ,2017-11-03

[5]

碳化硅制品生产用真空烧结炉 [P].

李平 ;

袁洪峰 ;

闫凡龙 ;

周泽宇 ;

李志涛 ;

徐博文 ;

胡尊云 ;

任文星 ;

孙国翔 ;

孟龙 ;

李海洲 .

中国专利 :CN114877692A ,2022-08-09

[6]

碳化硅烧结炉用脱蜡系统 [P].

张仁升 .

中国专利 :CN210356560U ,2020-04-21

[7]

一种氮化硅结合碳化硅用烧结炉 [P].

秦中心 ;

刘源 ;

王长春 ;

尹小有 .

中国专利 :CN222670668U ,2025-03-25

[8]

一种碳化硅双室烧结炉 [P].

李建淼 ;

陈杰 .

中国专利 :CN214892531U ,2021-11-26

[9]

一种碳化硅陶瓷烧结炉用余热回收装置 [P].

任意 ;

康洪涛 ;

朱淼华 .

中国专利 :CN221223423U ,2024-06-25

[10]

一种碳化硅制品生产用真空烧结炉 [P].

史海峰 ;

喻毅 ;

张竟文 .

中国专利 :CN208382868U ,2019-01-15

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