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一种用于STI技术的氧化铈抛光液及抛光条件
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202411533618.4
申请日
:
2024-10-31
公开(公告)号
:
CN119432234A
公开(公告)日
:
2025-02-14
发明(设计)人
:
于博
张强飞
杨博
张俊豪
陈浩霖
赵佳薇
刘振国
申请人
:
西北工业大学宁波研究院
申请人地址
:
315000 浙江省宁波市高新区清逸路218弄智造港A区西北工业大学宁波研究院
IPC主分类号
:
C09G1/02
IPC分类号
:
H01L21/306
代理机构
:
无锡市天宇知识产权代理事务所(普通合伙) 32208
代理人
:
周舟
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
陕西省 西安市
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2025-03-04
实质审查的生效
实质审查的生效IPC(主分类):C09G 1/02申请日:20241031
2025-02-14
公开
公开
共 50 条
[1]
一种氧化铈抛光液
[P].
王溯
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
上海新阳半导体材料股份有限公司
上海新阳半导体材料股份有限公司
王溯
;
蒋闯
论文数:
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机构:
上海新阳半导体材料股份有限公司
上海新阳半导体材料股份有限公司
蒋闯
;
史筱超
论文数:
0
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0
机构:
上海新阳半导体材料股份有限公司
上海新阳半导体材料股份有限公司
史筱超
;
秦长春
论文数:
0
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0
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0
机构:
上海新阳半导体材料股份有限公司
上海新阳半导体材料股份有限公司
秦长春
.
中国专利
:CN120230481A
,2025-07-01
[2]
一种氧化铈抛光液的应用
[P].
王溯
论文数:
0
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0
机构:
上海新阳半导体材料股份有限公司
上海新阳半导体材料股份有限公司
王溯
;
蒋闯
论文数:
0
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0
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机构:
上海新阳半导体材料股份有限公司
上海新阳半导体材料股份有限公司
蒋闯
;
杨杰
论文数:
0
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0
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0
机构:
上海新阳半导体材料股份有限公司
上海新阳半导体材料股份有限公司
杨杰
;
沈学敏
论文数:
0
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0
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0
机构:
上海新阳半导体材料股份有限公司
上海新阳半导体材料股份有限公司
沈学敏
.
中国专利
:CN120230483A
,2025-07-01
[3]
一种氧化铈抛光液的制备方法
[P].
王溯
论文数:
0
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0
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机构:
上海新阳半导体材料股份有限公司
上海新阳半导体材料股份有限公司
王溯
;
蒋闯
论文数:
0
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机构:
上海新阳半导体材料股份有限公司
上海新阳半导体材料股份有限公司
蒋闯
;
李泽宇
论文数:
0
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0
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机构:
上海新阳半导体材料股份有限公司
上海新阳半导体材料股份有限公司
李泽宇
.
中国专利
:CN120230482A
,2025-07-01
[4]
一种氧化铈抛光液的制备方法
[P].
熊长新
论文数:
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0
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0
机构:
华中光电技术研究所(中国船舶集团有限公司第七一七研究所)
华中光电技术研究所(中国船舶集团有限公司第七一七研究所)
熊长新
;
许修宇
论文数:
0
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0
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机构:
华中光电技术研究所(中国船舶集团有限公司第七一七研究所)
华中光电技术研究所(中国船舶集团有限公司第七一七研究所)
许修宇
;
何侃
论文数:
0
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0
机构:
华中光电技术研究所(中国船舶集团有限公司第七一七研究所)
华中光电技术研究所(中国船舶集团有限公司第七一七研究所)
何侃
.
中国专利
:CN117887356A
,2024-04-16
[5]
一种用于玻璃抛光的氧化铈液态悬浮抛光液
[P].
耿昌文
论文数:
0
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0
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0
耿昌文
.
中国专利
:CN110499102A
,2019-11-26
[6]
一种纳米氧化铈抛光液及其制备方法
[P].
齐朝辉
论文数:
0
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0
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0
齐朝辉
;
何晓艳
论文数:
0
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0
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何晓艳
;
张瑞敏
论文数:
0
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0
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0
张瑞敏
;
许亚杰
论文数:
0
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0
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0
许亚杰
.
中国专利
:CN110041831A
,2019-07-23
[7]
用于合金抛光的氧化铝抛光液及其制备方法
[P].
曾名辉
论文数:
0
引用数:
0
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0
曾名辉
.
中国专利
:CN103937413A
,2014-07-23
[8]
一种玻璃抛光用水基氧化铈抛光液及其制备方法
[P].
周群飞
论文数:
0
引用数:
0
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周群飞
;
何金名
论文数:
0
引用数:
0
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0
何金名
.
中国专利
:CN109929460A
,2019-06-25
[9]
抛光液及应用该抛光液对CdS晶片抛光的抛光方法
[P].
李晖
论文数:
0
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李晖
;
徐永宽
论文数:
0
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0
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徐永宽
;
程红娟
论文数:
0
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0
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程红娟
.
中国专利
:CN102952467A
,2013-03-06
[10]
氧化铈浆料、氧化铈抛光液以及使用其抛光衬底的方法
[P].
榎本和宏
论文数:
0
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0
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榎本和宏
;
吉川茂
论文数:
0
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0
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吉川茂
.
中国专利
:CN101291778A
,2008-10-22
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