一种基于络合铜溶液电沉积制备铜基电极的方法及其应用

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202410935320.X

申请日：

2024-07-12

公开(公告)号：

CN118771542B

公开(公告)日：

2025-02-07

发明(设计)人：

付文洋杨芮吕晓书蒋光明

申请人：

重庆工商大学

申请人地址：

404100 重庆市南岸区学府大道19号

IPC主分类号：

C25B11/052

IPC分类号：

C25B11/091

代理机构：

重庆航图知识产权代理事务所(普通合伙) 50247

代理人：

霍本俊

法律状态：

公开

国省代码：

重庆市市辖区

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-10-15	公开	公开
2025-02-07	授权	授权
2024-11-01	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):C02F 1/461申请日:20240712

共 50 条

[1]

一种基于络合铜溶液电沉积制备铜基电极的方法及其应用 [P].

付文洋 ;

杨芮 ;

吕晓书 ;

蒋光明 .

中国专利 :CN118771542A ,2024-10-15

[2]

一种铜基电极及其制备和应用 [P].

钟和香 ;

孙云浩 ;

张静雯 ;

潘立卫 ;

张晶 .

中国专利 :CN120905718A ,2025-11-07

[3]

一种铜基电极及其制备和应用 [P].

钟和香 ;

孙云浩 ;

张静雯 ;

潘立卫 ;

张晶 .

中国专利 :CN120905718B ,2025-12-12

[4]

一种基于铜/纳米铜/磷酸铜的全固态磷酸根电极及其制备方法 [P].

陶春辉 ;

何洋 ;

韩沉花 ;

杜昊 ;

叶瑛 ;

周建平 .

中国专利 :CN118090859A ,2024-05-28

[5]

一种铜薄膜材料及其电沉积制备方法 [P].

刘志权 ;

高丽茵 ;

孙蓉 .

中国专利 :CN110760903A ,2020-02-07

[6]

一种电沉积制备铋基电极的方法 [P].

卢会霞 ;

杨俊怡 ;

张旭 .

中国专利 :CN120210906A ,2025-06-27

[7]

一种高性能电沉积铜的制备方法 [P].

朱增伟 ;

葛文祥 ;

詹晓非 ;

赵子俊 .

中国专利 :CN121137717A ,2025-12-16

[8]

一种电沉积制备纳米铜粉的方法 [P].

颜志勇 ;

胡英 ;

王晓馨 ;

吕一帆 ;

姚勇波 ;

张葵花 ;

李喆 ;

生俊露 .

中国专利 :CN114774993A ,2022-07-22

[9]

一种纳米铜基一体电极材料的制备方法及其应用 [P].

王发楠 ;

李孟涛 ;

龚心怡 ;

陈阳灿 .

中国专利 :CN120060889A ,2025-05-30

[10]

一种电沉积铜用涂层钛阳极及其制备方法 [P].

聂菲 ;

张文彦 ;

尹梓行 ;

何瑞博 ;

冯庆 ;

贾波 ;

韦震 .

中国专利 :CN115354384A ,2022-11-18

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