图层合成方法及电子设备

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202411434443.1

申请日：

2023-12-05

公开(公告)号：

CN119444891A

公开(公告)日：

2025-02-14

发明(设计)人：

林颢烨孙国飞彭泽宇徐维超吴江铮

申请人：

华为技术有限公司

申请人地址：

518129 广东省深圳市龙岗区坂田华为总部办公楼

IPC主分类号：

G06T11/00

IPC分类号：

G06T5/50

代理机构：

代理人：

法律状态：

授权

国省代码：

广东省深圳市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-07-29	授权	授权
2025-02-14	公开	公开
2025-03-04	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):G06T 11/00申请日:20231205

共 50 条

[1]

图层合成方法及电子设备 [P].

林颢烨 ;

孙国飞 ;

彭泽宇 ;

徐维超 ;

吴江铮 .

中国专利 :CN120104078A ,2025-06-06

[2]

图层合成方法及电子设备 [P].

林颢烨 ;

孙国飞 ;

彭泽宇 ;

徐维超 ;

吴江铮 .

中国专利 :CN119444891B ,2025-07-29

[3]

图层合成方法和电子设备 [P].

陈杰 ;

蔡立峰 ;

杜鸿雁 .

中国专利 :CN119762624A ,2025-04-04

[4]

图层合成方法、电子设备及芯片系统 [P].

丁碧秀 .

中国专利 :CN119271079A ,2025-01-07

[5]

图层合成方法、电子设备及芯片系统 [P].

丁碧秀 .

中国专利 :CN119271079B ,2025-08-05

[6]

图层合成方法、装置、电子设备及存储介质 [P].

王东旭 ;

韩冰天 ;

张金山 .

中国专利 :CN120066634A ,2025-05-30

[7]

图层合成方法、装置、电子设备及存储介质 [P].

贺晨 ;

刘海 ;

黄文彦 ;

刘致宏 .

中国专利 :CN115700734A ,2023-02-07

[8]

图层合成方法、装置、电子设备及存储介质 [P].

胡杰 .

中国专利 :CN110363831A ,2019-10-22

[9]

图层合成方法、装置、电子设备及存储介质 [P].

胡杰 ;

袁晓日 .

中国专利 :CN110377264A ,2019-10-25

[10]

图层合成方法、装置、电子设备及存储介质 [P].

胡杰 .

中国专利 :CN110377257B ,2019-10-25

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