共 50 条
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レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物及び高分子化合物[ja]
被引：0
申请号：
JP20230106178
申请日：
2023-06-28
公开(公告)号：
JP2025005802A
公开(公告)日：
2025-01-17
发明(设计)人：
EBINA MASANORI
KATO HIROKI
申请人：
TOKYO OHKA KOGYO CO LTD
申请人地址：
IPC主分类号：
G03F7/039
IPC分类号：
C08F12/02
G03F7/20
代理机构：
代理人：
法律状态：
国省代码：
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法律状态
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