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高圧流体貯蔵容器の連続熱処理システム[ja]
被引:0
申请号
:
JP20230571318
申请日
:
2023-07-14
公开(公告)号
:
JP2025502579A
公开(公告)日
:
2025-01-28
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
F27B9/12
IPC分类号
:
C21D1/00
C21D9/00
F27B9/24
F27B9/36
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
熱処理システム[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2016158559A1
,2017-09-14
[2]
熱処理システムおよび熱処理方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2013008831A1
,2015-02-23
[3]
半導体処理システム[ja]
[P].
日本专利
:JP2024516979A
,2024-04-18
[4]
処理システム及び処理方法[ja]
[P].
KOBAYASHI SHINJI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOKYO ELECTRON LTD
TOKYO ELECTRON LTD
KOBAYASHI SHINJI
.
日本专利
:JP2024031788A
,2024-03-07
[5]
高処理能力の加熱イオン注入システムおよび方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2017527953A
,2017-09-21
[6]
圧縮冷却システムのサブ冷却システム[ja]
[P].
日本专利
:JP2015525867A
,2015-09-07
[7]
熱管理システム[ja]
[P].
日本专利
:JP2022060754A
,2022-04-15
[8]
加熱システム[ja]
[P].
日本专利
:JP2019525110A
,2019-09-05
[9]
情報処理システムの運用管理方法及び情報処理システム[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2011030469A1
,2013-02-04
[10]
熱交換システム[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2012053184A1
,2014-02-24
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