晶片退火装置及晶片退火工艺方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202411550464.X

申请日：

2024-11-01

公开(公告)号：

CN119446979A

公开(公告)日：

2025-02-14

发明(设计)人：

支毅敏李治廷沈勇

申请人：

赛莱克斯微系统科技（北京）有限公司

申请人地址：

100176 北京市大兴区北京经济技术开发区科创八街21号院1号楼(北京自贸试验区高端产业片区亦庄组团)

IPC主分类号：

H01L21/67

IPC分类号：

H01L21/687

代理机构：

北京众达德权知识产权代理有限公司 11570

代理人：

顾艳宇

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

安徽省宣城市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-03-04	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):H01L 21/67申请日:20241101
2025-02-14	公开	公开

共 50 条

[1]

晶片退火装置及晶片退火方法 [P].

李鑫宇 ;

杨成慧 .

中国专利 :CN115074838A ,2022-09-20

[2]

晶片退火装置 [P].

胡家乐 .

中国专利 :CN221626445U ,2024-08-30

[3]

晶片退火装置 [P].

刘林聪 ;

张平 ;

邹宇 ;

杨建 ;

彭同华 ;

娄艳芳 ;

杨占伟 ;

张大庆 ;

曹洋 .

中国专利 :CN120158821A ,2025-06-17

[4]

碳化硅晶片退火装置 [P].

夏海洋 ;

刘少晗 ;

张旭 .

中国专利 :CN222251130U ,2024-12-27

[5]

一种蓝宝石晶片退火工艺 [P].

丁云海 ;

卢东阳 ;

余胜军 ;

张京伟 .

中国专利 :CN110846720A ,2020-02-28

[6]

退火装置及退火方法 [P].

谢博钧 .

中国专利 :CN104124400A ,2014-10-29

[7]

退火装置和退火工艺 [P].

王祖强 .

中国专利 :CN103337457A ,2013-10-02

[8]

一种CdZnTeSe晶片的退火装置 [P].

李含冬 ;

方晨旭 ;

刘婷 ;

代轶文 ;

赵鹏 ;

李俊烨 ;

王建伟 ;

姬海宁 ;

牛晓滨 .

中国专利 :CN118292114A ,2024-07-05

[9]

使用晶片亮度来监测激光退火工艺和激光退火工具 [P].

弗兰克·祖普利斯 .

中国专利 :CN112119486A ,2020-12-22

[10]

一种磷化铟晶片退火装置 [P].

房现阁 ;

柯尊斌 ;

王卿伟 ;

郭友林 .

中国专利 :CN212648204U ,2021-03-02

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