半导体结构及半导体结构的形成方法

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专利类型
发明
申请号
CN202110432166.0
申请日
2021-04-21
公开(公告)号
CN115223990B
公开(公告)日
2025-01-21
发明(设计)人
李斌 熊鹏 叶偲偲 徐一凡 王瑜彬
申请人
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
申请人地址
201203 上海市浦东新区张江路18号
IPC主分类号
H01L23/528
IPC分类号
H01L21/768
代理机构
北京集佳知识产权代理有限公司 11227
代理人
徐文欣
法律状态
授权
国省代码
上海市
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共 50 条
[1]
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苏博 .
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