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背照式图像传感器的制备方法及背照式图像传感器
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202510038182.X
申请日
:
2025-01-10
公开(公告)号
:
CN119451257A
公开(公告)日
:
2025-02-14
发明(设计)人
:
郇小伟
汪勇
金文祥
申请人
:
合肥晶合集成电路股份有限公司
申请人地址
:
230000 安徽省合肥市新站区合肥综合保税区内西淝河路88号
IPC主分类号
:
H10F39/12
IPC分类号
:
代理机构
:
上海汉之律师事务所 31378
代理人
:
胡雨
法律状态
:
授权
国省代码
:
天津市 市辖区
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2025-05-06
授权
授权
2025-02-14
公开
公开
2025-03-04
实质审查的生效
实质审查的生效IPC(主分类):H10F 39/12申请日:20250110
共 50 条
[1]
背照式图像传感器的制备方法及背照式图像传感器
[P].
郇小伟
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
合肥晶合集成电路股份有限公司
合肥晶合集成电路股份有限公司
郇小伟
;
汪勇
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
合肥晶合集成电路股份有限公司
合肥晶合集成电路股份有限公司
汪勇
;
金文祥
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
合肥晶合集成电路股份有限公司
合肥晶合集成电路股份有限公司
金文祥
.
中国专利
:CN119451257B
,2025-05-06
[2]
背照式图像传感器制备方法及背照式图像传感器
[P].
陈维邦
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
合肥晶合集成电路股份有限公司
合肥晶合集成电路股份有限公司
陈维邦
.
中国专利
:CN121152343A
,2025-12-16
[3]
背照式图像传感器制备方法及背照式图像传感器
[P].
陈维邦
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
合肥晶合集成电路股份有限公司
合肥晶合集成电路股份有限公司
陈维邦
.
中国专利
:CN119403257B
,2025-04-25
[4]
背照式图像传感器制备方法及背照式图像传感器
[P].
陈维邦
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
合肥晶合集成电路股份有限公司
合肥晶合集成电路股份有限公司
陈维邦
.
中国专利
:CN120692939A
,2025-09-23
[5]
背照式图像传感器制备方法及背照式图像传感器
[P].
陈维邦
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
合肥晶合集成电路股份有限公司
合肥晶合集成电路股份有限公司
陈维邦
.
中国专利
:CN121240571A
,2025-12-30
[6]
背照式图像传感器制备方法及背照式图像传感器
[P].
陈维邦
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
合肥晶合集成电路股份有限公司
合肥晶合集成电路股份有限公司
陈维邦
.
中国专利
:CN121240570A
,2025-12-30
[7]
背照式图像传感器制备方法及背照式图像传感器
[P].
陈维邦
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
合肥晶合集成电路股份有限公司
合肥晶合集成电路股份有限公司
陈维邦
.
中国专利
:CN119403257A
,2025-02-07
[8]
背照式图像传感器制备方法及背照式图像传感器
[P].
陈维邦
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
合肥晶合集成电路股份有限公司
合肥晶合集成电路股份有限公司
陈维邦
.
中国专利
:CN121152344A
,2025-12-16
[9]
背照式图像传感器制备方法及背照式图像传感器
[P].
陈维邦
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
合肥晶合集成电路股份有限公司
合肥晶合集成电路股份有限公司
陈维邦
.
中国专利
:CN119403258A
,2025-02-07
[10]
背照式图像传感器
[P].
L·盖伊
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
意法半导体(克洛尔2)公司
意法半导体(克洛尔2)公司
L·盖伊
;
F·拉兰尼
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
意法半导体(克洛尔2)公司
意法半导体(克洛尔2)公司
F·拉兰尼
;
Y·昂力翁
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
意法半导体(克洛尔2)公司
意法半导体(克洛尔2)公司
Y·昂力翁
;
F·居亚代
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
意法半导体(克洛尔2)公司
意法半导体(克洛尔2)公司
F·居亚代
;
P·福特内奥
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
意法半导体(克洛尔2)公司
意法半导体(克洛尔2)公司
P·福特内奥
;
A·塞纳德
论文数:
0
引用数:
0
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机构:
意法半导体(克洛尔2)公司
意法半导体(克洛尔2)公司
A·塞纳德
.
法国专利
:CN119451256A
,2025-02-14
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