高分子モデルの生成方法、システム、及びプログラム[ja]

被引:0
申请号
JP20210098154
申请日
2021-06-11
公开(公告)号
JP7630364B2
公开(公告)日
2025-02-17
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
G16C20/00
IPC分类号
G16Z99/00
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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共 50 条
[2]
架橋高分子モデルの生成方法、システム、及びプログラム[ja] [P]. 
KARATSU SHUICHI .
日本专利 :JP2023158301A ,2023-10-30
[3]
フィラー充填高分子モデルの生成方法、システム、及びプログラム[ja] [P]. 
KARATSU SHUICHI .
日本专利 :JP2024006223A ,2024-01-17
[6]
高分子に対する溶媒探索システム、モデル作成システム、溶解性予測システム、高分子に対する溶媒探索方法、及びプログラム[ja] [P]. 
UTSU TAKUYA ;
KANEKO YU .
日本专利 :JP2025100487A ,2025-07-03
[9]
[10]