接着剂层形成用组合物、层叠体、层叠体的制造方法及处理方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202411202075.8

申请日：

2024-08-29

公开(公告)号：

CN119529732A

公开(公告)日：

2025-02-28

发明(设计)人：

内田一幸松尾久留実

申请人：

日铁化学材料株式会社

申请人地址：

日本东京中央区日本桥一丁目13番1号

IPC主分类号：

C09J167/06

IPC分类号：

C09J11/06 C09J11/00 B32B7/12 B32B7/06 B32B37/12 B32B43/00

代理机构：

北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205

代理人：

杨贝贝;黄健

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-02-28	公开	公开

共 50 条

[1]

接着剂层形成用组合物、层叠体、层叠体的制造方法及层叠体的处理方法 [P].

涩谷佳佑 .

日本专利 :CN119193074A ,2024-12-27

[2]

接着剂层形成用组合物、层叠体、接着剂层的制造方法、层叠体的制造方法及处理方法 [P].

佐藤恵 ;

内田一幸 ;

滑川崇平 ;

高野正臣 .

日本专利 :CN118256177A ,2024-06-28

[3]

粘接剂层组合物、层叠体、层叠体的制造方法及层叠体的处理方法 [P].

内田一幸 .

日本专利 :CN118146749A ,2024-06-07

[4]

接着剂层形成用组合物、层叠体的制造方法及处理方法 [P].

内田一幸 ;

吉村和明 ;

滑川崇平 ;

佐藤恵 .

中国专利 :CN114369438A ,2022-04-19

[5]

接合剂层形成用组合物、层叠体、层叠体的制造方法及层叠体的处理方法 [P].

内田一幸 ;

佐藤惠 .

中国专利 :CN115141552A ,2022-10-04

[6]

组合物、层叠体和层叠体的制造方法 [P].

中村雄三 ;

茅场靖刚 ;

镰田润 .

日本专利 :CN115956098B ,2024-11-26

[7]

暂时接着用层叠体、暂时接着用层叠体的制造方法及带有元件晶片的层叠体 [P].

加持义贵 ;

小山一郎 ;

岩井悠 ;

沢野充 ;

中村敦 .

中国专利 :CN106459680A ,2017-02-22

[8]

层叠体及层叠体的制造方法 [P].

许嘉政 ;

陈重铭 .

中国专利 :CN114683631A ,2022-07-01

[9]

层叠体及层叠体的制造方法 [P].

许嘉政 ;

陈重铭 .

中国专利 :CN114683631B ,2024-01-09

[10]

层叠体及层叠体的制造方法 [P].

瓶子克 ;

后藤信弘 ;

幸柳博司 ;

横田玲夫奈 ;

田中俊章 .

中国专利 :CN102137758B ,2011-07-27

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