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光刻机曝光精度的高空间分辨率和高精度检测方法
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202411765526.9
申请日：
2024-12-04
公开(公告)号：
CN119247707B
公开(公告)日：
2025-03-04
发明(设计)人：
刘海清
朱忻
王冬云
申请人：
苏州矩阵光电有限公司
申请人地址：
215600 江苏省苏州市张家港市凤凰镇凤凰大道14号（凤凰科创园D栋、E栋）
IPC主分类号：
G03F7/20
IPC分类号：
H01L21/66
代理机构：
上海光华专利事务所(普通合伙) 31219
代理人：
贺妮妮
法律状态：
专利权质押登记、变更及注销
国省代码：
江苏省
苏州市
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2025-12-09 | 专利权质押登记、变更及注销 | 专利权质押登记IPC(主分类):G03F 7/20登记号:Y2025980052850登记日:20251121出质人:苏州矩阵光电有限公司质权人:中国银行股份有限公司张家港分行发明名称:光刻机曝光精度的高空间分辨率和高精度检测方法申请日:20241204授权公告日:20250304 |
| 2025-01-21 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效IPC(主分类):G03F 7/20申请日:20241204 |
| 2025-03-04 | 授权 | 授权 |
| 2025-01-03 | 公开 | 公开 |