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二酸化炭素をメタン化するメタン化触媒及びその製造方法、並びに二酸化炭素をメタン化する方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20230129458
申请日
:
2023-08-08
公开(公告)号
:
JP2025025023A
公开(公告)日
:
2025-02-21
发明(设计)人
:
YAMAMOTO YOSUKE
TAKAHASHI SHINJI
KATAYAMA MIWA
申请人
:
TODAKOGYO CORP
申请人地址
:
IPC主分类号
:
B01J23/755
IPC分类号
:
B01J23/89
B01J35/45
B01J35/61
B01J37/03
B01J37/16
C07C1/12
C07C9/04
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
一酸化炭素メタン化触媒組成物及び一酸化炭素メタン化触媒[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2015012189A1
,2017-03-02
[2]
メタン酸化触媒、メタン酸化触媒の製造方法、および、メタンの分解方法[ja]
[P].
FUJIOKA KOICHI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
KANADEVIA CORP
KANADEVIA CORP
FUJIOKA KOICHI
;
NISHIDA YUSUKE
论文数:
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引用数:
0
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0
机构:
KANADEVIA CORP
KANADEVIA CORP
NISHIDA YUSUKE
;
HINO NAOE
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
KANADEVIA CORP
KANADEVIA CORP
HINO NAOE
;
HIZUYA SUSUMU
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
KANADEVIA CORP
KANADEVIA CORP
HIZUYA SUSUMU
;
SHONO EMI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
KANADEVIA CORP
KANADEVIA CORP
SHONO EMI
.
日本专利
:JP2024157394A
,2024-11-07
[3]
硫黄酸化物を含む二酸化炭素からメタンを生成する方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7272739B2
,2023-05-12
[4]
二酸化炭素(CO2)のメタン化触媒、その製造方法、それを用いたメタン製造装置、および、それを用いたメタンの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2025014579A
,2025-01-30
[5]
固体逆方向触媒及びその製造方法並びにその低温での二酸化炭素メタン化の触媒における用途[ja]
[P].
日本专利
:JP2025512237A
,2025-04-17
[6]
メタネーションのための触媒およびメタンを製造する方法[ja]
[P].
IMANAKA NOBUHITO
论文数:
0
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0
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0
机构:
UNIV OSAKA
UNIV OSAKA
IMANAKA NOBUHITO
;
NUNOTANI NAOYOSHI
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0
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机构:
UNIV OSAKA
UNIV OSAKA
NUNOTANI NAOYOSHI
;
IZUMI KOICHI
论文数:
0
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机构:
UNIV OSAKA
UNIV OSAKA
IZUMI KOICHI
;
KAWABATA RYOJI
论文数:
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0
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机构:
UNIV OSAKA
UNIV OSAKA
KAWABATA RYOJI
.
日本专利
:JP2025030888A
,2025-03-07
[7]
メタネーションのための触媒およびメタンを製造する方法[ja]
[P].
IMANAKA NOBUHITO
论文数:
0
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机构:
OSAKA UNIV
OSAKA UNIV
IMANAKA NOBUHITO
;
NUNOTANI NAOYOSHI
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机构:
OSAKA UNIV
OSAKA UNIV
NUNOTANI NAOYOSHI
;
IZUMI KOICHI
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0
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0
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机构:
OSAKA UNIV
OSAKA UNIV
IZUMI KOICHI
;
KAWABATA RYOJI
论文数:
0
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0
机构:
OSAKA UNIV
OSAKA UNIV
KAWABATA RYOJI
.
日本专利
:JP2025069000A
,2025-04-30
[8]
一酸化炭素の選択的メタン化触媒、その製造方法及びそれを用いた装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2010122855A1
,2012-10-25
[9]
メタンの二酸化炭素改質用カプセル化触媒、及びそれを用いた合成ガスの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2018158883A1
,2019-11-07
[10]
炭素ドープ酸化チタン層を有する基体の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2005056865A1
,2007-12-13
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