一种低温等离子体射流装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202411788131.0

申请日：

2024-12-06

公开(公告)号：

CN119653569A

公开(公告)日：

2025-03-18

发明(设计)人：

卢新培雷乐康刘嘉林聂兰兰

申请人：

华中科技大学

申请人地址：

430074 湖北省武汉市洪山区珞喻路1037号

IPC主分类号：

H05H1/24

IPC分类号：

A61M37/00 A61N1/44

代理机构：

华中科技大学专利中心 42201

代理人：

王颖翀

法律状态：

公开

国省代码：

湖北省武汉市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-03-18	公开	公开
2025-04-04	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):H05H 1/24申请日:20241206

共 50 条

[1]

一种低温等离子体射流装置 [P].

李如粉 .

中国专利 :CN206181514U ,2017-05-17

[2]

一种低温等离子体射流装置 [P].

刘振 ;

郑超 ;

寇艳芹 ;

黄逸凡 ;

闫克平 .

中国专利 :CN206024220U ,2017-03-15

[3]

一种低温等离子体射流装置 [P].

林愿春 .

中国专利 :CN106304591B ,2017-01-04

[4]

一种刷状低温等离子体射流装置 [P].

郑超 ;

刘振 ;

寇艳芹 ;

姜红强 ;

黄逸凡 ;

闫克平 .

中国专利 :CN205584605U ,2016-09-14

[5]

一种低温等离子体关节腔穿刺射流装置 [P].

丁呈彪 ;

吴征威 .

中国专利 :CN215135974U ,2021-12-14

[6]

一种低温等离子体射流产生装置 [P].

谢玉杰 ;

马福阳 ;

李龙 ;

徐敬 .

中国专利 :CN207589254U ,2018-07-06

[7]

一种带多孔介质的刷状低温等离子体射流装置 [P].

刘振 ;

郑超 ;

寇艳芹 ;

黄逸凡 ;

闫克平 .

中国专利 :CN205726632U ,2016-11-23

[8]

一种低温等离子体射流发生器单元装置 [P].

章建浩 ;

王进 ;

孙建忠 .

中国专利 :CN223666524U ,2025-12-12

[9]

阵列立体低温等离子体保鲜装置 [P].

刘光正 ;

王兴权 ;

李梦超 ;

欧阳凯祥 ;

甘睿峰 ;

王煜祥 ;

卢秀圆 ;

连素云 ;

曾桂 ;

陈维 ;

黄骏 .

中国专利 :CN214546940U ,2021-11-02

[10]

一种低温等离子体发生装置 [P].

万良淏 ;

王强 ;

戴阳 ;

万京林 .

中国专利 :CN120935917A ,2025-11-11

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