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電子部品及び荷電粒子ビーム照射装置[ja]
被引:0
申请号
:
JP20230151758
申请日
:
2023-09-19
公开(公告)号
:
JP2025044065A
公开(公告)日
:
2025-04-01
发明(设计)人
:
AZUMA KAZUYUKI
TSUMURA KAZUMICHI
SAITO TOMOHIRO
YODA TAKASHI
OGASAWARA MUNEHIRO
HIRAKAWA KENJI
IWASE MASAYUKI
申请人
:
TOSHIBA CORP
NUFLARE TECHNOLOGY INC
申请人地址
:
IPC主分类号
:
H01L21/027
IPC分类号
:
G03F7/20
H01J37/09
H01J37/147
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
電子部品及び荷電粒子ビーム照射装置[ja]
[P].
ONOZUKA YUTAKA
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOSHIBA CORP
TOSHIBA CORP
ONOZUKA YUTAKA
;
AZUMA KAZUYUKI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOSHIBA CORP
TOSHIBA CORP
AZUMA KAZUYUKI
;
SAITO TOMOHIRO
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOSHIBA CORP
TOSHIBA CORP
SAITO TOMOHIRO
;
GOTO YOSHIKUNI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOSHIBA CORP
TOSHIBA CORP
GOTO YOSHIKUNI
;
SHINOHARA YOSHIAKI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOSHIBA CORP
TOSHIBA CORP
SHINOHARA YOSHIAKI
.
日本专利
:JP2025044137A
,2025-04-01
[2]
荷電粒子ビーム照射装置及び荷電粒子ビーム照射方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6210493B2
,2017-10-11
[3]
荷電粒子源及び荷電粒子ビーム照射装置[ja]
[P].
日本专利
:JP6598005B2
,2019-10-30
[4]
荷電粒子ビーム照射装置および荷電粒子ビーム照射方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7293042B2
,2023-06-19
[5]
荷電粒子ビーム照射方法および荷電粒子ビーム照射装置[ja]
[P].
日本专利
:JP7646582B2
,2025-03-17
[6]
荷電粒子ビーム照射装置[ja]
[P].
日本专利
:JP7094752B2
,2022-07-04
[7]
荷電粒子ビーム照射装置[ja]
[P].
日本专利
:JP6461734B2
,2019-01-30
[8]
荷電粒子ビーム照射装置[ja]
[P].
日本专利
:JP6775860B1
,2020-10-28
[9]
荷電粒子ビーム照射装置[ja]
[P].
日本专利
:JP7482760B2
,2024-05-14
[10]
荷電粒子ビーム照射装置[ja]
[P].
日本专利
:JP6387476B1
,2018-09-05
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