活性酸素処理装置及び活性酸素による処理方法、並びにオゾンＵＦＢ含有液製造装置[ja]

被引：0

申请号：

JP20230138429

申请日：

2023-08-28

公开(公告)号：

JP2025032914A

公开(公告)日：

2025-03-12

发明(设计)人：

TAKASHIMA KENJI FURUKAWA TAKUMI ATA YOSUKE AOTANI TAKAHARU NAKAZAWA IKUO

申请人：

CANON KK

申请人地址：

IPC主分类号：

A61L2/18

IPC分类号：

H05H1/24

代理机构：

代理人：

法律状态：

国省代码：

引用

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共 42 条

[1]

活性酸素による処理装置及び活性酸素による処理方法[ja] [P].

日本专利 :JP2023020953A ,2023-02-09

[2]

活性酸素供給装置、活性酸素による処理装置及び活性酸素による処理方法[ja] [P].

日本专利 :JP7140885B2 ,2022-09-21

[3]

活性酸素供給装置、活性酸素による処理装置及び活性酸素による処理方法[ja] [P].

日本专利 :JP2022023131A ,2022-02-07

[4]

活性酸素供給装置及び活性酸素による処理方法[ja] [P].

日本专利 :JP7571088B2 ,2024-10-22

[5]

除菌装置、除菌方法、活性酸素供給装置及び活性酸素による処理装置[ja] [P].

日本专利 :JP7786801B2 ,2025-12-16

[6]

活性酸素量測定装置、活性酸素表面処理装置、活性酸素量測定方法および活性酸素表面処理方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2013035304A1 ,2015-03-23

[7]

活性酸素量測定装置、活性酸素表面処理装置、活性酸素量測定方法および活性酸素表面処理方法[ja] [P].

日本专利 :JP6059148B2 ,2017-01-11

[8]

活性酸素水および活性酸素水の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP7169016B1 ,2022-11-10

[9]

活性酸素消去剤、活性酸素消去方法及び活性酸素消去剤の製造方法[ja] [P].

SHIODA GOTARO ;

OKUMURA TATSUYA .

日本专利 :JP2025126877A ,2025-08-29

[10]

活性酸素消去剤、活性酸素消去方法及び活性酸素消去剤の製造方法[ja] [P].

SHIODA GOTARO ;

OKUMURA TATSUYA .

日本专利 :JP2025126858A ,2025-08-29

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