照明系统、光刻机以及照明均匀性补偿方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202011632305.6

申请日：

2020-12-31

公开(公告)号：

CN114690580B

公开(公告)日：

2025-04-04

发明(设计)人：

田毅强储兆祥

申请人：

上海微电子装备（集团）股份有限公司

申请人地址：

201203 上海市浦东新区张东路1525号

IPC主分类号：

G03F7/20

IPC分类号：

代理机构：

上海思捷知识产权代理有限公司 31295

代理人：

王宏婧

法律状态：

授权

国省代码：

上海市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-04-04	授权	授权

共 50 条

[1]

照明系统、光刻机以及照明均匀性补偿方法 [P].

田毅强 ;

储兆祥 .

中国专利 :CN114690580A ,2022-07-01

[2]

光刻机照度均匀性补偿方法及装置、照明系统及光刻机 [P].

钱俊 ;

湛宾洲 .

中国专利 :CN110658689B ,2020-01-07

[3]

光刻机照明均匀性补偿片的制造方法 [P].

伍强 ;

颜晓艳 ;

朱克俭 ;

孙珉 .

中国专利 :CN101311833A ,2008-11-26

[4]

光刻机照明系统及光刻机 [P].

金成昱 ;

金帅炯 ;

梁贤石 ;

丁明正 ;

贺晓彬 ;

刘强 ;

刘金彪 ;

白国斌 .

中国专利 :CN114675494A ,2022-06-28

[5]

光刻机的照明系统 [P].

刘玄 .

中国专利 :CN108931888A ,2018-12-04

[6]

照明系统及光刻机 [P].

徐建旭 ;

田毅强 .

中国专利 :CN109782543B ,2019-05-21

[7]

照明系统及光刻机 [P].

罗龙锋 ;

田毅强 .

中国专利 :CN115407612A ,2022-11-29

[8]

一种光刻机照明系统均匀性校正装置 [P].

王振 ;

程伟林 ;

张学成 ;

任冰强 ;

曾爱军 ;

黄惠杰 .

中国专利 :CN115542680A ,2022-12-30

[9]

光刻机照明系统损伤检测方法 [P].

李玉华 ;

黄发彬 ;

林辉 ;

吴长明 ;

姚振海 ;

金乐群 .

中国专利 :CN113515022A ,2021-10-19

[10]

照明系统、光瞳椭圆度补偿方法及光刻机 [P].

田毅强 ;

徐建旭 ;

兰艳平 .

中国专利 :CN112305863B ,2021-02-02

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