高分子薄膜及其制造方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202411325499.3
申请日
2024-09-23
公开(公告)号
CN119708768A
公开(公告)日
2025-03-28
发明(设计)人
陈志荣
申请人
奇美实业股份有限公司
申请人地址
中国台湾台南市仁德区中正路一段398号
IPC主分类号
C08L67/00
IPC分类号
C08J5/18 C08L79/08
代理机构
北京中原华和知识产权代理有限责任公司 11019
代理人
寿宁;张琳
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[1]
高分子薄膜及其制造方法 [P]. 
何宜学 ;
蔡孟颖 .
中国专利 :CN115505262A ,2022-12-23
[2]
高分子薄膜及其制造方法 [P]. 
何宜学 ;
蔡孟颖 .
中国专利 :CN115505261A ,2022-12-23
[3]
高分子薄膜及其制造方法 [P]. 
何宜学 ;
蔡孟颖 .
中国专利 :CN115505261B ,2024-01-02
[4]
高分子薄膜及其制造方法 [P]. 
何宜学 ;
蔡孟颖 .
中国专利 :CN115505262B ,2024-04-09
[5]
高分子薄膜的制造方法 [P]. 
长野卓人 ;
山口克己 ;
南秀人 .
中国专利 :CN109563279A ,2019-04-02
[6]
高分子薄膜、膜状层叠体、及高分子薄膜的制造方法 [P]. 
平野千春 ;
宫田壮 .
中国专利 :CN111032752A ,2020-04-17
[7]
高分子薄膜、膜状层叠体、及高分子薄膜的制造方法 [P]. 
平野千春 ;
宫田壮 .
中国专利 :CN111032751A ,2020-04-17
[8]
薄膜高分子层叠电容器及其制造方法 [P]. 
金井利仁 ;
早川有奈 ;
加古智直 .
日本专利 :CN119547167A ,2025-02-28
[9]
薄膜高分子层叠电容器及其制造方法 [P]. 
金井利仁 ;
早川有奈 ;
加古智直 .
日本专利 :CN119547167B ,2025-09-16
[10]
高分子薄膜驻极体的制造方法 [P]. 
王寿泰 ;
张国光 ;
张和康 .
中国专利 :CN1006502B ,1987-03-11