抛光液、制备方法、应用和抛光工艺

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202411917195.6

申请日：

2024-12-24

公开(公告)号：

CN119775904A

公开(公告)日：

2025-04-08

发明(设计)人：

殷达关飞飞孙健

申请人：

深圳市众望丽华微电子材料有限公司

申请人地址：

518000 广东省深圳市光明区凤凰街道凤凰社区观光路2533号A1栋505-1深圳市光明区凤凰街道凤凰社区观光路2533号A1栋0505A

IPC主分类号：

C09G1/02

IPC分类号：

B24B57/02 B24B57/00 B24B1/00

代理机构：

深圳市世纪恒程知识产权代理事务所 44287

代理人：

罗敏

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

广东省深圳市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-04-25	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):C09G 1/02申请日:20241224
2025-04-08	公开	公开

共 50 条

[1]

抛光液及应用该抛光液对CdS晶片抛光的抛光方法 [P].

李晖 ;

徐永宽 ;

程红娟 .

中国专利 :CN102952467A ,2013-03-06

[2]

抛光液及其制备方法和应用 [P].

程好 ;

高永超 ;

杨淑平 ;

庄维伟 ;

张国栋 ;

蔡渊 .

中国专利 :CN103923571B ,2014-07-16

[3]

一种高悬浮性氧化铈抛光液及其抛光工艺和应用 [P].

钟伟春 ;

汤金慧 ;

黎建军 .

中国专利 :CN115141548A ,2022-10-04

[4]

抛光液、抛光工艺和抛光设备 [P].

邹静 .

中国专利 :CN120795807A ,2025-10-17

[5]

一种晶片抛光用抛光液及其制备方法 [P].

李加海 ;

梁则兵 .

中国专利 :CN115386297A ,2022-11-25

[6]

一种晶片抛光用抛光液及其制备方法 [P].

李加海 ;

梁则兵 .

中国专利 :CN115386297B ,2024-04-26

[7]

钨抛光液 [P].

闵学勇 ;

邢振林 .

中国专利 :CN101781766A ,2010-07-21

[8]

施翊璇 ;

汤弢 .

中国专利 :CN116285697B ,2025-04-11

[9]

一种水基磁辅助抛光液、制备方法及磁流变抛光液 [P].

白杨 ;

邓伟杰 ;

薛栋林 ;

张学军 .

中国专利 :CN109536039A ,2019-03-29

[10]

抛光液及其制备方法 [P].

李俊锋 ;

李青 ;

徐兴军 ;

张广涛 ;

闫冬成 ;

王丽红 ;

郑权 .

中国专利 :CN107629701B ,2018-01-26

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