一种AZIF纳米填料、制备方法、同质界面介导的混合基质膜及其制备方法和应用

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202411987946.1
申请日
2024-12-31
公开(公告)号
CN119701675A
公开(公告)日
2025-03-28
发明(设计)人
董冠英 牛鑫蒲 张亚涛 王景 单美霞 朱军勇 刘宗凯
申请人
郑州大学
申请人地址
450000 河南省郑州市高新技术开发区科学大道100号
IPC主分类号
B01D69/14
IPC分类号
B01D67/00 B01D53/22
代理机构
郑州知劲专利代理事务所(普通合伙) 41193
代理人
黄龙
法律状态
实质审查的生效
国省代码
江苏省 常州市
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共 50 条
[1]
一种AZIF纳米填料、制备方法、同质界面介导的混合基质膜及其制备方法和应用 [P]. 
董冠英 ;
牛鑫蒲 ;
张亚涛 ;
王景 ;
单美霞 ;
朱军勇 ;
刘宗凯 .
中国专利 :CN119701675B ,2025-11-21
[2]
一种混合基质膜及其制备方法 [P]. 
贲腾 ;
裘式纶 ;
魏慧欣 .
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[3]
混合基质膜及其制备方法和应用 [P]. 
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[4]
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杨思旭 ;
郭鑫 ;
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[5]
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[6]
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[7]
一种混合基质膜及其制备方法和应用 [P]. 
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[8]
一种混合基质膜及其制备方法和应用 [P]. 
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[9]
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[10]
混合基质膜及其制备方法和应用 [P]. 
黄汉根 ;
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