抛光层，抛光垫及抛光方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202510005327.6

申请日：

2025-01-02

公开(公告)号：

CN119734199A

公开(公告)日：

2025-04-01

发明(设计)人：

罗乙杰毛丽华高越

申请人：

湖北鼎汇微电子材料有限公司湖北鼎龙汇盛新材料有限公司湖北鼎龙控股股份有限公司

申请人地址：

430057 湖北省武汉市武汉经济技术开发区东荆河路1号411号房

IPC主分类号：

B24B37/24

IPC分类号：

B24B37/22 B24B37/10 B24B37/04 B24B37/005 B24B49/00 B24B49/16

代理机构：

代理人：

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

河南省郑州市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-04-18	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):B24B 37/24申请日:20250102
2025-04-01	公开	公开

共 50 条

[1]

聚氨酯、抛光层、抛光垫及抛光方法 [P].

砂山梓纱 ;

高冈信夫 ;

服部和正 ;

林浩一 ;

加藤充 ;

冈本知大 ;

加藤晋哉 .

中国专利 :CN114787225A ,2022-07-22

[2]

抛光层、抛光垫、抛光垫的制造方法及抛光方法 [P].

砂山梓纱 ;

合志佑有子 ;

加藤充 .

日本专利 :CN118574699A ,2024-08-30

[3]

抛光层用聚氨酯、抛光层及抛光垫 [P].

加藤充 ;

冈本知大 ;

加藤晋哉 .

中国专利 :CN113039041A ,2021-06-25

[4]

抛光层用聚氨酯、抛光层及抛光垫 [P].

门胁清文 ;

加藤充 ;

竹越穰 ;

冈本知大 ;

加藤晋哉 .

中国专利 :CN112423933B ,2021-02-26

[5]

抛光层用聚氨酯、包含聚氨酯的抛光层及该抛光层的改性方法、抛光垫及抛光方法 [P].

大下梓纱 ;

竹越穰 ;

加藤充 ;

冈本知大 ;

加藤晋哉 .

中国专利 :CN110573547B ,2019-12-13

[6]

抛光层用聚氨酯、抛光层、抛光垫及抛光层的改性方法 [P].

砂山梓纱 ;

加藤充 ;

竹越穰 ;

冈本知大 ;

加藤晋哉 .

中国专利 :CN112839985A ,2021-05-25

[7]

抛光垫、其聚氨酯层及抛光硅晶片的方法 [P].

布赖恩·利特克 ;

迈克尔·K·科斯 .

中国专利 :CN102448669A ,2012-05-09

[8]

抛光层用热塑性聚氨酯、抛光层及抛光垫 [P].

砂山梓纱 ;

合志佑有子 ;

加藤充 .

日本专利 :CN117980110A ,2024-05-03

[9]

抛光垫、抛光装置及抛光方法 [P].

涩木俊一 .

中国专利 :CN1628374A ,2005-06-15

[10]

抛光层用非多孔性成型体、抛光垫及抛光方法 [P].

门胁清文 ;

加藤晋哉 ;

冈本知大 ;

加藤充 ;

竹越穰 .

中国专利 :CN107073678B ,2017-08-18

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