一种天线反射面成型方法及装置

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专利类型
发明
申请号
CN202510245065.0
申请日
2025-03-04
公开(公告)号
CN119764861A
公开(公告)日
2025-04-04
发明(设计)人
安增权 魏瑛 韩建
申请人
西安恒达微波技术开发有限公司
申请人地址
710100 陕西省西安市长安区航天基地飞天路485号
IPC主分类号
H01Q15/14
IPC分类号
H01Q19/10
代理机构
西安维赛恩专利代理事务所(普通合伙) 61257
代理人
张瑞琪
法律状态
公开
国省代码
陕西省 西安市
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共 50 条
[1]
一种夹层结构天线反射面的快速成型工艺及天线反射面 [P]. 
许粉 ;
付琛 ;
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[2]
一种高精度天线反射面成型工艺 [P]. 
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[3]
天线反射面拟合方法 [P]. 
杨德华 ;
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李国平 .
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[4]
天线反射面组件 [P]. 
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中国专利 :CN204966664U ,2016-01-13
[5]
微波天线反射面 [P]. 
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胡奇辉 ;
陈志兴 .
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[6]
一种高精度天线反射面成型工装 [P]. 
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张世伟 ;
李志刚 .
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[7]
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[8]
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秦静 ;
冯尚森 ;
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[9]
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[10]
一种微波天线反射面 [P]. 
窦华土 ;
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熊国辉 ;
冯秦栩 ;
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